Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

What is This
Wie is Ons
MH Toerusting
Oplossing
Oorsese gebruikers
Video
Kontak Ons

Verwyder fotoresist van oppervlak van die wafer met behulp van Plasma, en verwyder fotoresist van die halfgeleier

2024-12-11 13:27:39
Verwyder fotoresist van oppervlak van die wafer met behulp van Plasma, en verwyder fotoresist van die halfgeleier
Verwyder fotoresist van oppervlak van die wafer met behulp van Plasma, en verwyder fotoresist van die halfgeleier

Minder-Hightech is 'n halfgeleiervervaardiger. Halfgeleiers is kritieke komponente van baie van wat die moderne lewe maak, soos selfone en rekenaars. Nou is daar 'n paar stappe om halfgeleiers te skep, maar die eerste stap is om 'n patroon te skep op 'n plat oppervlak wat bekend staan ​​as 'n wafer.

Om hierdie patroon weer te gee, plaas ons 'n spesiale materiaal op die wafer. Hierdie stof staan ​​bekend as 'n fotoresist. Sodra ons die fotoweerstand neergesit het, stel ons dit aan lig bloot. Onder die lig word 'n area van die fotoweerstand verhard en sterk gemaak. Die areas in skaduwee bly sag en kan weggevee word.

Nadat die verlangde patroon op die wafer verkry is, moet die fotoresist gestroop word van die areas waar ons verdere verwerking sal uitvoer. Dit is waar Plasma skoonmaker kom letterlik ter sprake.

Plasma-gebaseerde metodes vir die verwydering van fotoresist

Plasma is 'n toestand van gas met 'n hoë vlak van energie, as gevolg van 'n hoë elektriese lading wat daarop toegepas word. En hierdie geaktiveerde gas is baie nuttig om die fotoresist op die wafeloppervlak te stroop. Deur plasma kan die fotoweerstand bros word en dit word baie makliker om skoon te maak.

Ons het twee verskillende tegnieke wat plasma gebruik vir die verwydering van fotoresist: droë ets en as.

Die droë ets: In hierdie tegniek, die werklike plasma wat in wisselwerking met die fotoresist is. Die plasma reageer met die fotoweerstand waar dit kontak maak. Hierdie reaksie ontbind die fotoresist en sit dit om in gas. Hierdie gasvormige stof kan vervolgens van die wafeloppervlak af skoongemaak word, wat lei tot die blootstelling van die areas wat ons benodig skoon en beskikbaar vir progressie.

Asing - Dit is 'n ander manier om dit te doen, in hierdie metode word nie-reaktiewe plasma vir die fotoweerstand gebruik. Die plasma breek eerder die fotoweerstand in klein, klein stukkies. Dan kan hierdie klein stukkies van die wafer afgewas word. Hierdie benadering is geskik en beskerm die wafer terwyl die onnodige fotoweerstand verwyder word.

Gebruik reaktiewe plasma vir fotoresist-stroop

Behandeling van die oppervlak van die plasma is 'n baie kragtige instrument wat ons help om die sterkste fotoweerstand van die wafer te stroop. Plasma is ongelooflik in sy eie reg, maar die beste deel is dat ons dit in 'n superselektiewe middel kan verander. Dit beteken dat dit ingestel kan word om net spesifiek met die fotoweerstand te reageer, nie met die ander materiale daaronder nie.

Byvoorbeeld: As ons 'n patroon op die wafer het waar metaal onder die fotoresist geplaas word, kan ons 'n tipe plasma gebruik wat net met die fotoresist reageer. Ons kan dus die fotoweerstand wegets sonder om die metaal daaronder te beskadig. Nou, dit is baie krities aangesien ons alle dele van die wafer nodig het om sy integriteit tydens die proses te behou.

Die Plasma-tegniek om fotoweerstand te strop

Minder-Hightech gebruik nuwe era plasma-tegnologie om die fotoweerstand van ons wafers te stroop. Dit stel ons in staat om foutlose halfgeleiers te vervaardig, wat van hoë gehalte is.

Vinnig, instelbaar volgens jou behoeftes Ons stelsels is ontwerp om naatloos in jou werkvloei te integreer. Dit dui aan dat ons in staat is om die fotoresist kortliks te stroop. En omdat ons vinnig is, voldoen ons aan die volle aanvraag van ons kliënte en lewer ons wonderlike produkte wanneer hulle dit nodig het.

Maar ons plasmastelsels is ook baie akkuraat, bo en behalwe hul doeltreffendheid. Wat hierdie akkuraatheid ons bied, is die vermoë om slegs die fotoweerstand self te verwyder. Ons tegnologie verhoed dat alle ander dele van die wafer deur ons proses beskadig word, en ons kan dit nie bekostig om dit te doen nie. Hierdie metodiese praktyk word des te meer noodsaaklik vir die kwaliteit van die halfgeleiers wat ons daar buite vervaardig.

Plasma-geïnduseerde fotoweerstand verwydering op halfgeleiers

Dus, kortom, plasma is 'n superkrag wat ons in staat stel om 'n mate van fotoresist op 'n hoogs effektiewe manier van die wafeloppervlak af te stroop. Ons, by Minder-Hightech, pas die nuutste en beste plasma-tegnologie toe om presies nul-defekte kwaliteit halfgeleiers te produseer. Wanneer dit by plasmastelsels kom, word ons oplossings vervaardig om spoed met akkuraatheid te ewenaar, terwyl dit steeds baie doeltreffend is. Dit beteken om in staat te wees om aan die eise van ons kliënte te voldoen, asook om kwaliteit produkte sonder versuim te lewer. Dit hop om die proses van halfgeleiers te verbeter soos ons gebruik plasma verwydering tegnologie wat ons halfgeleiers so goed moontlik maak vir alle soorte elektroniese toestelle om betroubare toestelle te wees.

 


INHOUDSOPGAWE

    Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-45ondersoek Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-46E-posadres Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-47WhatsApp Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-48WeChat
    Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-49
    Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-50Top