CVD-toerusting vir Grafeen en Kohlenwaterstof Nanobuisies Materiaal / Halwegeleiende toerusting , China CVD-toerusting vir Grafeen en Kohlenwaterstof Nanobuisies Materiaal / Halwegeleiende toerusting Manufacturers, Suppliers, Factory

Produkbeskrywing

CVD-toerusting vir graphene en koolstof nanobuisiesmateriaal

Die toerusting word hoofsaaklik gebruik vir die prosesbedekking van graphene en nano-materiaal; Verspreiding, oksidasie en annealing van polikristalliene silisium en silisiumkarbied.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Spesifikasie

strukturele styl	Horisontaal, een-pyp of vele-pypstelsel outomatiese beheer
Gepas aan plaatgrootte	2-8″
Plaatlewings- en -haalmetode	Outomatiese kantelkwarst duw-trek boot, gekombineer met handmatige silisiumneem- en vrylaat.
Maksimum temperatuur	1050℃
Werktemperatuur	400 ℃~850 ℃ kontinu instelbaar
Enkelpunt temperatuurstabiliteit	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Stelsel limiet vakuum	Beter as 1Pa
pompingsnelheid	Pomptime na limietvakuum ＜ 15Min
werkdruk reeks	5Pa na 1 × 105Pa kontinu instelbaar
Kragtoevoer	3 fasies 5-draad 380V±10%，50Hz
Koelwater	2~4Kgf/cm²，8L/min;

Verpaking & Levering

Bedryfsprofiel

Ons het 16 jaar ervaring in toerustingverkope. Ons kan jou verskaf met een-stop Semiconductor Vorentoe en Agtertoe Verpakkinglyn toerusting professionele oplossing van China.