$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$
$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$
$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$
$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$
$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$
$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$

$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$
$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$
$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$
$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$
$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$
$ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer$

ICP droog Plasma Verwydering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwydering (PR) masjien vir semiconductor wafer

Produkbeskrywing

ICP PLASMA Verwyder Photoresist Masjien

ASHING
Polimer verwynwing
Droog verwynwing van harde maskelaag
Fotoresist verwynwing na ionimplantasie
Fotoresistensie verwydering in BAW/SAW proses
Droogreinig van anti-refleksie grafiek film laag
Oppervlak residu verwydering
Oppervlakreiniging na etsering
DESCUM

ICP-droë plasma fotoresistensieverwyderingsmasjiene is geskik vir DESCUM (voorbehandeling, verwydering van fotoresistensiereste) Polimeerverwydering (PI, BCB, PBO) Na ionimplantasie, fotoresistensieverwydering ens., die kamer is geskik vir 8-tyns monsters (4-6 tyne kompatibel)

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer manufacture

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer factory

Spesifikasie

Plasma			RF	RF
Krag	ICP	1000W	1000W
Krag		BIAS	600w(option)	600w(option)
Toepaslike Wysig			4~8 tyne	4~8 tyne
Enkele verwerkingslystelling			1	2
Voorkoms afmetings			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Stelselbeheer			Industriële Beheerstelsel	Industriële Beheerstelsel
Automatiseringnivo			outomaties	outomaties