CVD оборудване за материали с графен и въглеродни нанотръби / полупроводниково оборудване, Китай CVD оборудване за материали с графен и въглеродни нанотръби / полупроводниково оборудване Производители, доставчици, фабрика

Описание на продукта

CVD оборудване за материали от графен и въглеродни нанотръби

Оборудването се използва главно за процесно покритие на графен и нано материали; Дифузия, окисляване и отгряване на поликристален силиций и силициев карбид.

CVD оборудване за графен и въглеродни нанотръбни материали / подробности за полупроводниковото оборудване

CVD оборудване за графен и въглеродни нанотръбни материали / фабрика за полупроводниково оборудване

Спецификация

структурен стил	Автоматично управление на хоризонтална, еднотръбна или многотръбна система
Адаптирайте към размера на вафлата	2-8 ″
Метод за доставка и извличане на вафли	Автоматична конзолна кварцова лодка за бутане и издърпване, комбинирана с ръчно вземане и освобождаване на чипа.
максимална температура	1050 ℃
работна температура	400 ℃ ~ 850 ℃ непрекъснато регулируеми
Стабилност на температурата в една точка	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Система за ограничаване на вакуума	По-добре от 1Pa
скорост на изпомпване	Време за изпомпване за ограничаване на вакуума < 15 минути
Диапазон на работното налягане	5Pa до 1 × 105Pa непрекъснато регулируеми
Захранване	3 фаза 5-жилен 380V±10%, 50Hz
охлаждаща вода	2~4Kgf/cm², 8L/мин;

Опаковане и доставка

Профил на компанията

Имаме 16 години опит в продажбата на оборудване. Ние можем да ви предоставим професионално решение за полупроводникови предни и задни пакетни линии от Китай.