PECVD Плазмено усилена химикална депозиция на парични фази / Високотемпературен процес PECVD , China PECVD Плазмено усилена химикална депозиция на парични фази / Високотемпературен процес PECVD Manufacturers, Suppliers, Factory

Описание на продукта

PECVD Усилена с плазма химическа парева депозиция на оборудването

◆ Пълен автоматичен контрол на процесното време, температурата, потока на газа, действията на клапана и налягането в реакционната камера се осъществяват чрез
промышлен компютър.
◆ Изворен систем за контрол на налягането и затворен цикъл са приети, с висока стабилност.
◆ Използване на изворни корозионно-устойчиви компоненти от неръжавеща оцел и кранове, за да се гарантира газовата тяснота на газовия циркул.
◆ Разполага с перфектна функция за предупреждение и сигурността на устройството за блокировка.
◆ Разполага с предупреждение за надмощна температура и подмощна температура, предупреждение MFC, предупреждение за налягането в реакционната камера, предупреждение RF, предупреждение за ниско налягане на компресиран въздух, предупреждение за ниско налягане на N2, предупреждение за нисък поток на охлаждаване.
◆ Съществуващото PECVD разполага с функцията за растеж на SiO2 филм след усъвършенствуване, което решава проблема PID на батерейния модул. Може да се образува SiNxOy филм (процес на обратна пасивация), което може значително да подобри преобразуването на ефикасността на батерията.

PECVD Plasma enhanced chemical vapor deposition equipment / High temperature PECVD process supplier

PECVD Plasma enhanced chemical vapor deposition equipment / High temperature PECVD process details

PECVD Plasma enhanced chemical vapor deposition equipment / High temperature PECVD process factory

Тип

◆ Количество на зареждане: 384 броя/лодка (125 * 125); 336 броя/лодка (156 * 156)
◆ Чистота на чистата маса: Клас 100 (завод Клас 10000)
◆ Степен на автоматизация: автоматичен контрол на температурата и процеса.
◆ Режим на изпращане и приемане на чипове: тип мека посадка, с устойчиви и надежни характеристики, без ползуване, точна позиционировка, голяма носеща способност и дълъг срок на служба.

Спецификация

Максимална заредка на труба	384 броя/лодия (125125) 336 броя/лодия (156156)
Индекс на процеса	± 3% в таблетката, ± 3% между таблетките, ± 3% между партиите
Работна температура	200~500℃
Точност и дължина на температурната зона (статичен тест с затворена тръбка)	1200мм±1℃
Точност на потока на газа	±1%FS
Въздушен затвор на въздушната циркулационна система	1×10-7Па.м³/С
Контрол	Пълно импортиран автоматичен систем за регулиране на налягането с обратна връзка, прецизен контрол на реакционния вакуум; 40КHz високочестотна мощност снабдяване; Мека посадка на човека; Пълен цифров контрол, съвършен и безопасен процес на защитен контрол.
Има опции за 1, 2, 3 или 4 тубуса; Автоматичният манипулятор за зареждане е опция, а производствените характеристики и характеристиките на процеса могат да се сравнени с най-добрия подобен апарат в света.

Упаковка и доставка

PECVD Plasma enhanced chemical vapor deposition equipment / High temperature PECVD process manufacture

За да осигурим по-добра безопасност на вашите стоки, ще бъдат предоставени професионални, екологично чисти, удобни и ефективни услуги за опаковане.

Фирмен профил

Имаме 16 години опит в продажбите на оборудване. Можем да ви предоставим всеобхватно решение за професионални машини за упаковка на полупроводници от начален до краен етап, произведени в Китай.