Toto zařízení se používá především pro vývoj a výrobu malých a středních integrovaných obvodů, polovodičových součástek a zařízení s povrchovými akustickými vlnami. Díky pokročilému nivelačnímu mechanismu a nízké nivelační síle je tento stroj vhodný nejen pro expozici různých typů podkladů, ale také pro expozici snadno rozdrobitelných podkladů, jako je arsenid draselný a fosfátová ocel, a také pro expozici ne kruhové a malé substráty.
Specifikace
Hlavní technické parametry
1. Typ expozice: jednostranná expozice 2. Expoziční plocha: 110X110mm; 3. Rovnoměrnost expozice: ≥ 97 %; 4. Intenzita expozice: 0-30mw/cm2 nastavitelná; 5. Úhel UV záření: ≤ 3 ° 6. Centrální vlnová délka ultrafialového světla: 365nm; 7. Životnost zdroje UV světla: ≥ 20000 hodin; (2 roky záruka) 8. Přijetí elektronické závěrky; 9. Rozlišení expozice: 1 μM 10. Rozsah pohledu kamery: ± 15 mm Y: ± 15 mm 11. Rozsah vyrovnání: x: ± 4 mm Y: ± 4 mm Q：±3°. 12. Přesnost vyrovnání: 1 um (za dobrých podmínek prostředí) 13. Rozsah vzdálenosti oddělování: 0-50um nastavitelný. 14.Metoda expozice: kontaktní expozice.(tvrdý/měkký/mikrodotek) 15. Bilanční metoda: Vzduchová flotace. 16. Mikroskopický systém: CCD systém s duálním zorným polem, čočka objektivu 1.6X~10X, počítačový systém zpracování obrazu, 19" LCD monitor; Celkové zvětšení 91-570x. Vzdálenost objektivu: 50-120 mm. 17. Velikost masky: 127*127mm;102*102mm 18. Velikost substrátu: Φ102mm；Φ76mm 19. Tloušťka podkladu: ≤1mm 20. Doba expozice: 0-999.9 sekund nastavitelná. 21.Výkon: 220V 50Hz 1.5kw. 22.zdroj vzduchu?0.4Mpa 23. Stupeň vakua: -0.07MPa~-0.09Mpa
Balení a dodání
Profil společnosti
Máme 16 let zkušeností s prodejem zařízení. Můžeme vám poskytnout profesionální řešení One-stop Semiconductor Front-end a Back-end Package Line zařízení z Číny.
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NE
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
