Rapid Thermal Processing Desktop RTP systém pro složené polovodiče SlC LED a MEMS, Čína Rapid Thermal Processing Desktop RTP systém pro složené polovodiče SlC LED a MEMS Výrobci, dodavatelé, továrna

popis produktu

Rychlé tepelné zpracování

Poskytněte spolehlivé RTP zařízení pro složené polovodiče, SlC, LED a MEMS

Průmyslové aplikace

* Růst oxidů, nitridů
* Rychlá slitina s ohmickým kontaktem
* Žíhání silicidové slitiny
* Oxidační reflux
* Proces arsenidu galia
* Další procesy rychlého tepelného zpracování

Rapid Thermal Processing Desktop RTP systém pro složené polovodiče SlC LED a detaily MEMS

Přednosti produktu

1. Rozsah procesu pokrývá 200-1250 ℃
2. Výkonný systém řízení teplotního pole
3. Vyhrazený algoritmus RTP
4. Profesionální nástroj pro kalibraci TC Wafer

vlastnost

* Infračervené halogenové žárovky vytápění trubice, chlazení pomocí chlazení vzduchem;
* Regulace teploty PlD pro výkon lampy, která může přesně řídit nárůst teploty a zajistit dobrou reprodukovatelnost a rovnoměrnost teploty;
* Vstup materiálu je nastaven na povrch WAFER, aby se zabránilo tvorbě studených bodů během procesu žíhání a zajistila se dobrá rovnoměrnost teploty produktu;
* Lze zvolit jak atmosférickou, tak vakuovou metodu ošetření s předúpravou a očistou těla;
* Dvě sady procesních plynů jsou standardní a lze je rozšířit až na 6 sad procesních plynů;
* Maximální velikost měřitelného vzorku monokrystalu křemíku je 12 palců (300 x 300 MM);
* Pro zajištění bezpečnosti přístroje jsou plně implementována tři bezpečnostní opatření – ochrana proti otevření při bezpečné teplotě, ochrana proti povolení otevření regulátoru teploty a bezpečnostní ochrana zařízení při nouzovém zastavení;

Koincidence křivek 20. stupně

Rapid Thermal Processing Desktop RTP systém pro výrobu složených polovodičů SlC LED a MEMS

20 křivek pro regulaci teploty při 850 ℃

Rapid Thermal Processing Desktop RTP systém pro složené polovodiče SlC LED a MEMS factory

Koincidence 20 průměrných teplotních křivek

Regulace teploty 1250 ℃

Rapid Thermal Processing Desktop RTP systém pro složené polovodiče SlC LED a MEMS dodavatel

Proces regulace teploty RTP 1000 ℃

960 ℃ proces, řízený infračerveným pyrometrem

LED procesní data

RTD Wafer je teplotní senzor, který využívá speciální techniky zpracování k zabudování teplotních senzorů (RTD) na konkrétní místa na povrchu waferu, což umožňuje měření povrchové teploty na waferu v reálném čase.
Skutečná měření teploty na konkrétních místech na destičce a celkové rozložení teploty destičky lze získat prostřednictvím RTD Wafer; Může být také použit pro nepřetržité sledování přechodných teplotních změn na plátcích během procesu tepelného zpracování.