Et proces, hvor der bruges specielle kemikalier til at fjerne det øverste lag af et materiale kaldet fotoresist på en selektiv måde. Den såkaldte fotoresist er et lysaktiveret klæbemateriale. De ændrede egenskaber hos det fotosensitive materiale giver mulighed for at danne unikke former og design under lysudslag. På denne måde kan vi skabe læsbare, højdefinition design på overfladen af et elektronisk apparat - informationen, det har brug for for at kunne fungere.
En etchant anvendes under processen med fotoresist etch back. Når denne etchant kommer i kontakt med fotoresistmaterialet spiser den grundlæggende noget af det yderste lag, hvor vi ønsker at beholde og få ridder af - vores mønster. Dette er nyttigt i tilfælde af former med forskellige højder som flere niveauer. Dette gør det muligt for os at bygge komplekse design nødvendige for højteknologi.
Der er en række vigtige fordele ved at bruge photoresist etch back til elektronikapplikationer. For det første opretter det yderst præcise mønstre. Da en fejl i et af mønstrene kan føre til problemer med, hvordan et apparat fungerer, er det vigtigt, at denne trin være meget nøjagtig. Hvis designene kun er lidt forkert, vil de resultere i, at ingen dele af apparatet fungerer som forventet. Disse fejl mindskes af photoresist etch back-processen, der genererer præcise og nøjagtige funktioner, der er egnet til implementering i vafer.
Dette øger ikke kun nøjagtigheden, men forbedrer også noget der kaldes aspektforhold. Aspektforhold - Aspektforholdet er forholdet mellem en objekts højde og bredde. Hvis vi forsigtigt fjerner lagene af fotoresistmateriale ovenover, kan vi forøge dets aspektforhold uden at skade andre efterfølgende lag. Dette gør det nemmere at oprette endnu mere komplekse former, der er nødvendige for fremstillingen af næste generations computerchips og andre elektroniske enheder.
Fotoresist Downstream Ashing i elektronisk enhedsproduktion Dette letter mønstrening af de forskellige enheder i en computerchip eller ethvert andet elektronisk komponent. Dette gør det muligt at oprette de små og komplekse design, der er afgørende for de avancerede operationer, der bruges i moderne teknologi. Det er dette, der gør dem i stand til at udføre komplekse opgaver og gøre alt, hvad vi kan få vores små hænder på.
Der findes måder at sikre optimal udnyttelse af photoresist etch back for størst mulig fordel. Flere Lag af PhotoresistEn anden almindelig praksis er at bruge flere lag af photoresist. På denne måde laver vi et længere lag, der kan modstå processen med angreb og etching med kemikalier. Desuden kan variation i photoresist tykkelse give den bløde hældning i mønstre. Dette kan i sin tur forbedre aspektforholdet af de endelige mønstre, men ikke kun begrænset til at accelerere, eller komprimere mønsterhældninger.
For udviklingen af avancerede computerchips og relaterede komponenter er denne teknik kaldet photoresist etch back meget kritisk. Denne proces gør det også muligt at lave mindre og mere komplicerede mønstre på chips overflade. Bygningen af de små cirkuitter, som chips kræver for at fungere, hjælpes meget af, hvor detaljerede disse design skal være. Og med teknologiens udvikling bliver design af sådanne design endnu vigtigere.
Minder Hightech består af højuddannede specialister inden for photoresist etch back, erfarede ingeniører og personale, med imponerende professionelle færdigheder og ekspertise. Indtil i dag har vores brands produkter rejst til de største industrialiserede lande over hele verden og hjulpet kunder med at forøge effektiviteten, mindske omkostningerne og forbedre kvaliteten af deres produkter.
Minder-Hightech er salg og service af Photoresist etch back for udstyr i elektronik- og halvlederindustrien. Vi har mere end 16 års erfaring inden for salg og service af udstyr. Selskabet er dedikeret til at levere kunderne Superior, Reliable, og One-Stop-løsninger for maskineudstyr.
Vi tilbyder en række produkter. Disse omfatter Photoresist etch back.
Minder-Hightech har været et eftertragtet navn i den industrielle verden. Med vores mange års erfaring inden for maskineløsninger samt vores fremragende relationer med Photoresist etch back, har vi udviklet "Minder-Pack", der fokuserer på maskineløsninger for pakning og andre værdifulde maskiner.
Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
