ASKING DESCUM fotoresist fjernelse ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine , Kina ASKING DESCUM fotoresist fjernelse ICP Dry Plasma Photoresist fjernelse maskine fabrikanter, leverandører, fabrik

Produkt beskrivelse

ICP Dry Plasma Photoresist Fjernelsesmaskine

ICP tør plasma fotoresistfjernelsesmaskine bruges hovedsageligt til fjernelse af polymerer, ASHING, DESCUM, fotoresistfjernelse efter ionimplantation og fjernelse af overfladerester. Kaviteten er velegnet til 4-8 tommer prøver, med 1-2 stykker behandlet i en enkelt proces.

ASKNING
Polymer fjernelse
Tør fjernelse af hårdt maskelag
Fjernelse af fotoresistens efter ionimplantation
Fjernelse af fotomodstand i BAW/SAW-proces
Kemisk rensning af antireflekterende grafisk filmlag
Fjernelse af overfladerester
Overfladerensning efter ætsning
DESCUM

ASKING DESCUM fotoresist fjernelse ICP Dry Plasma Photoresist fjernelse Maskindetaljer

ASKING DESCUM fotoresist fjernelse ICP Dry Plasma Photoresist fjernelse Maskinfabrik

Specification

PLASMA			RF	RF
Power	ICP	1000w	1000w
Power		BIAS	600w (ekstraudstyr)	600w (ekstraudstyr)
Anvendeligt anvendelsesområde			4~8寸	4~8寸
Antal enkelt forarbejdningsskive			1	2
Udseende dimensioner			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Systemstyring			Industrielt kontrolsystem	Industrielt kontrolsystem
Automatiseringsniveau			automatisk	automatisk