CVD-udstyr til grafen- og kulnanorørmaterialer / Halvlederudstyr , Kina CVD-udstyr til grafen- og kulnanorørmaterialer / halvlederudstyr Producenter, leverandører, fabrik

Produkt beskrivelse

CVD udstyr til grafen og kulstof nanorør materialer

Udstyret bruges hovedsageligt til procesbelægning af grafen og nanomaterialer; Diffusion, oxidation og udglødning af polykrystallinsk silicium og siliciumcarbid.

CVD-udstyr til grafen- og kulnanorørmaterialer / detaljer om halvlederudstyr

CVD-udstyr til grafen og kulstof nanorørmaterialer / halvlederudstyrsfabrik

Specification

strukturel stil	Horisontal, enkeltrørs- eller multirørsystem automatisk styring
Tilpas til waferstørrelse	2-8 ″
Wafer levering og hentning metode	Automatisk cantilever kvarts push-pull båd, kombineret med manuel spåntagning og frigørelse.
maksimal temperatur	1050 ℃
arbejdstemperatur	400 ℃ ~ 850 ℃ kontinuerligt justerbar
Enkeltpunkts temperaturstabilitet	400℃~850℃≤±0.5℃/24 timer
Systemgrænsevakuum	Bedre end 1Pa
pumpehastighed	Pumpetid for at begrænse vakuum ＜ 15min
Arbejdstrykområde	5Pa til 1 × 105Pa kontinuerligt justerbar
Strømforsyning	3-faset 5-leder 380V±10%，50Hz
kølevand	2~4Kgf/cm²，8L/min;

Pakning og levering

Firma profil

Vi har 16 års erfaring med salg af udstyr. Vi kan give dig One-stop Semiconductor Front-end og Back end Package Line udstyrs professionel løsning fra Kina.