CVD-Equipment til Graphene og Carbon Nanotube Materialer / Halvlederudstyr , China CVD-Equipment til Graphene og Carbon Nanotube Materialer / Halvlederudstyr Manufacturers, Suppliers, Factory

Produktbeskrivelse

CVD udstyr til graphene og carbon nanotube materialer

Udstyret bruges hovedsageligt til procesbehandling af graphene og nano-materialer; Diffusion, oxidation og annealing af polycrystallin silicium og silicon carbide.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Specifikation

strukturform	Horisontal, enkelt- eller flertybsystem med automatisk kontrol
Tilpasset til vafersstørrelse	2-8″
Vafervask og -hentningsmetode	Automatisk kantilerveer kvarts tryg-pull båd, kombineret med manuel chip-håndtering og frigivelse.
Maksimal temperatur	1050℃
Arbejdstemperatur	400 ℃~850 ℃ kontinuerligt justerbar
Enkelt punkt temperaturstabilitet	400℃~850℃≤±0,5℃/24h
Systemgrænsevacuum	Bedre end 1Pa
pumpenhastighed	Pumpetid til grænsevacuum < 15Min
Arbejdstrykområde	5Pa til 1 × 105Pa kontinuerligt justerbar
Strømforsyning	3 fasers 5-tråd 380V±10%, 50Hz
kølevand	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Pakning & Levering

Virksomhedsprofil

Vi har 16 års erfaring inden for udstyrsforhandler. Vi kan tilbyde en omfattende løsning på professionel niveau for Semiconductor Front-end og Back end Package-linjeudstyr fra Kina.