Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Forside
Om os
MH Equipment
Løsning
Brugere i udlandet
Video
Kontakt os
Hjem> FR fjernelse RTP USC
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine
  • Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine

Semikonduktorskive Siliciumkarbidetsching RIE Reaktiv Ionen Etching Plassafbildningsfjerningsmaskine

Produktbeskrivelse

RIE Plasma fjerning af fotoresist maskine

RIE Plasma fjerning af fotoresist maskine egnet til siliciumkarbid etching, overflade rest fjerning, siliciumoxid eller siliciumnitrid etching, mv. Kavitetten er egnet til 4-8 tommer prøver
Siliciumkarbid etching
Overflade rensning efter etching
DESCUM
Hård maskelag, tørre fjerning
Siliciumoxid eller siliciumnitrid etching
Fjernelse af optisk modstand mellem medier
Fjernelse af overfladeafgifter
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Specifikation
Plasmakilde
Rf
Effekt
ICP
_
BIAS
1000W(option)
Anvendelsesområde
4~8 tommer
Enkelt bearbejdningsskiveantal
1
Eksterne dimensioner
850mmx900mmx1850mm
Systemkontrol
PLC
Automatiseringsniveau
Manuel
Fabrik
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Pakning & Levering
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Virksomhedsprofil
16 års erfaring inden for udførsel af udstyr! Vi kan tilbyde dig en alt-i-et-løsning for Semiconductor Front End Processer og Udstyr!
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture

Anmodning

Anmodning Email Whatsapp Top
×

KOM I KONTAKT