Halvlederindustri Skiveformet PR-fjerningsmaskine Fotokemisk resist Restfjerning , China Halvlederindustri Skiveformet PR-fjerningsmaskine Fotokemisk resist Restfjerning Manufacturers, Suppliers, Factory

Produktbeskrivelse

Bærertype Fototekt Fjerner PR fjerningsmaskine

DESCUM
Waferrensning
Fjerne resterende lim efter vandproces
Fjernelse af overfladeafgifter
Fjerne resterende lim efter udsættelse og udvikling

Semiconductor industry Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal details

Proces

Semiconductor industry Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

Semiconductor industry Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Semiconductor industry Tray type PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture

Fordel:

kernefordel

Høj afstivningsrate: Højdensitet plasma, hurtig afstivningsrate
Stabilitet: Efter plasma behandling, høj reproducerbarhed
Fjernplasma: Fjernplasma, lav jonbeskædning af vaflet
Funktionel software: uafhængig udvikling af software, intuitiv procesanimation, detaljerede data og optegnelser
Enhedethed: Plasma kan kontrollere tryk og temperatur gennem en sommerfuglsvane
Sikkerhedsfaktor: Lavt plasma reducerer skade på produktet under afgivelse.
Eftersalgstjeneste: Hurtig respons og tilstrækkelig lagerbeholdning
Støvkontrol: Opfylder kundekrav.
Kerne teknologi: Med næsten 40% af R&D-teamets medlemmer

Cassette Platform (MD-ST 6100/620)

1. 4 Vaflebeholdere
2. Høj kompatibilitet: fleksibiliteten i valg af vafersstørrelse giver høj effektivitet og løsningskvalitet
3. Høj stabil vakuumoverførselskammer:
Den modne og stabile vakuumtransmissionsdesign er blevet markedsmæssigt anvendt i flere år og anerkendes godt af kunder.
Rundstolsdesign, kompakt plads, reducerer betydeligt risikoen for PARTIKLER
4. Humaniseret softwarebrugergrænseflade:
Selvforklarende humaniseret softwarebrugergrænseflade, realtidsovervågning af maskinens driftstilstand;
Komplet alarm- og fejlbevisningsfunktion for at undgå forkert handling.
Effektiv dataeksportfunktion, registrering af forskellige procesparametre og eksport af produktionsposter for varer.

Robot

1. En gang dobbelt vafervælgning og -placering design medfører høj produktivitet
2. Forbedrer rumeffektiviteten.

Varmeplade

1. Højpræcist temperaturregulering af vaffelplade
Vaffeloplægningsplade fra rumtemperatur til 250°C, temperaturregleringsnøjagtighed ±1°C
Vaffeloplægningspladen er blevet kalibreret med professionelle instrumenter, og uniformiteten ligger inden for ±3°C, hvilket sikrer en ensartet fjerning af liim
2. Enkeltkammer med dobbeltvaffelbehandling
Enkeltkammerdobbeltvaffel design;
Uafhængig strømudledning for hver vaffel, hvilket sikrer en omfattende PR-fjerningsvirkning for hver vaffel;
Under forudsætning af at UPH-effektiviteten sikres, reduceres produktomkostningerne. Stor kompatibilitet
3. Produktionskapacitet: Reaktorkammer med dobbeltvaffeldesign, høj produktionseffektivitet.

Specifikation

Plasma			rf	rf
Effekt	ICP	1000W	1000W
Effekt		BIAS	600w(option)	600w(option)
Anvendelsesområde			4~8 tommer	4~8 tommer
Enkelt bearbejdningsskiveantal			1	2
Eksterne dimensioner			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Systemkontrol			Industriel Styringssystem	Industriel Styringssystem
Automatiseringsniveau			automatisk	automatisk

Hardwareevne
Opdrifts-/Tilgængelighedstid	≧95%
Gennemsnitlig tid til rengøring (MTTC)	≦6 timer
Gennemsnitlig tid til reparation (MTTR)	≦4 timer
Gennemsnitlig tid mellem fejl (MTBF)	≧350 timer
Gennemsnitlig tid mellem assistenter (MTBA)	≧24 timer
Gennemsnitlig vafle mellem skader (MWBB)	≦1 ud af 10.000 vafer
Regulering af varmeplade	50-250°

Prøvesedling

Fabrik udsigt

Pakning & Levering

Virksomhedsprofil

Vi har 16 års erfaring inden for udstyrsforhandler. Vi kan levere en alt-i-en-løsning for Semiconductor frontend og back end Pakke Linje Udstyr fra Kina!