Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Forside
Om os
MH Equipment
Løsning
Brugere i udlandet
Video
Kontakt os
Hjem> FR fjernelse RTP USC
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt
  • Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt

Maskinfabrik til fjernelse af plasma photoresist på halvlederwafer PR Fjerningsudstyr Alvorligt

Produktbeskrivelse

BATCH PLASMA Halvlederwafer Photoresist Fjerningsmaskine

Behandlingstemperaturen er lav og kan opretholde plasman under høj trykken
DESCUM Wafer rensning Våd fjerning af photoresist Overfladeafgiftsfjerning Fjerne photoresistafgifter efter udsættelse og udvikling
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious factory
Specifikation
Plasmakilde
Rf
mikrobølgeovn
Effekt
1000W
1250w
Anvendelsesområde
4~8 tommer
4~8 tommer
Enkelt bearbejdningsskiveantal
4~6 tommer=50 stk\/8 tommer=25 stk
4~6 tommer=50 stk\/8 tommer=25 stk
Eksterne dimensioner
1250x1630x1900mm
1250x1630x1900mm
Systemkontrol
PC
PC
Automatiseringsniveau
Auto
Auto
Fabrik
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Produktdetaljer
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Pakning & Levering
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious factory
Virksomhedsprofil
16 års erfaring inden for udstyrseksport! Vi kan tilbyde dig en alt-i-et-løsning for Semiconductor Front\/Back End Processer og Udstyr.
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture

Anmodning

Anmodning Email Whatsapp Top
×

KOM I KONTAKT