Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

αρχική σελίδα
Σχετικά με Εμάς
MH Equipment
Λύση
Χρήστες Εκτός Από την Επιχείρηση
Βίντεο
Επικοινωνία μαζί μας
Αρχική> Στοιχειοθέτης
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας
  • Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας

Συστάδας Προσαρμογής/Μηχανήματος Προσαρμογής φωτολιθογραφίας

Περιγραφή Προϊόντων
Mask Aligner Μηχανή Φωτολιθογραφίας
Το Mask Aligner χρησιμοποιείται κυρίως στην ανάπτυξη και παραγωγή μικρών και μεσαίων κλίμακας ολοκληρωμένων κυκλωμάτων, περιβαλλομένων συστατικών, φωτοηλεκτρονικών συσκευών, επιφανειακών ηχουσών συσκευών, λεπτών κυκλωμάτων και δυναμικών ηλεκτρονικών συσκευών
Ο Mask Aligner, επίσης γνωστός ως: μηχανή σύμφωνης εκτύπωσης, σύστημα εκτύπωσης, σύστημα λιθογράφησης κλπ., είναι το πυρήνιο εξοπλισμός για την κατασκευή χιπ. Χρησιμοποιεί τεχνολογία παρόμοια με τη φωτογραφική εκτύπωση για να εκτυπώσει τις λεπτές μορφές του μάσκου στον κρυστάλλινο διάκτο με το φως.
Αποτελείται κυρίως από: υψηλής ακρίβειας συμφωνιστικό εργαστήριο, δικόπτικο χωρισμένο πεδίο θεωρίας κατακόρυφο μικροσκόπιο, δικόπτικο χωρισμένο πεδίο θεωρίας οριζόντιο μικροσκόπιο, ψηφιακή κάμερα, υπολογιστικό σύστημα εικόνας μνήμης, πολυσημειωτική πηγή φωτισμού (fly eye) εκτύπωσης, σύστημα ελέγχου PLC, πνευματικό σύστημα, σύστημα κενού, άμεσα συνδεδεμένος κάνειας κενού, δεύτερο σύστημα αντισεισμικού εργαστηρίου και κιβώτιο προσαρμογής.
Aligner /Alignment Machine photolithography manufacture
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Χαρακτηριστικό
1. Υψηλής ομοιομορφίας φωτιστική κεφαλή fly-eye / μηχανισμός επιπέδωσης με αεριού / αξιόπιστη εκτύπωση κενού. υψηλής ανάλυσης.
2. Μέθοδος σύμφωνης με το μάσκο που διατηρεί σταθερό και υποστρώνο, που εξασφαλίζει τη συνέπεια της οδηγίας βαρύτητας και της δύναμης.
3. Χρήση οδηγού άνευ ρωγμών, υψηλής ακρίβειας, γρήγορης ταχύτητας.
4.Όλα τα μοντέλα είναι πρόσφερα για εργασία με όλα τα κανονικά photoresists, όπως AZ, Shipley, SU 8.
5. Όλα τα μοντέλα: Η ποιότητα του μοτίβου που μεταφέρεται από το σύστημα στο υποκείμενο ύλιο μετά από 5 εφαρμογές φακέλων θα πρέπει να είναι η ίδια με την ποιότητα του μοτίβου μετά την πρώτη εφαρμογή του φακέλου.
6. Ο χρόνος εκθέσεως είναι ρυθμιζόμενος μεταξύ 1 δευτερόλεπτου και 1 ώρας. Ακρίβεια στον σύνδεσμο 1 µm
Aligner /Alignment Machine photolithography supplier
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Aligner /Alignment Machine photolithography manufacture
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Aligner /Alignment Machine photolithography manufacture
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Περιγραφή
Μοντέλο
MD-G25A
MD-G25D
MD-G31

MD-G33



Τύπος εκθέσεως
ένα πλευρά

Διπλή πλευρά σύνδεσης και διπλή πλευρά εκθέσεως



Τρόπος έκθεσης
Επαφή καλής, μαλακής και μη-επαφικής προσέγγισης




Ποσότητα κεφαλής εκθέσεως
1 Κεφαλή εκθέσεως

2 Κεφαλές εκθέσεως



Τύπος πηγής φωτός
GCQ350 σφαιρική λαμπίδα μερκουρίου



Λαμπίδα εκθέσεως LED UV

Μέθοδος Ψύξης
ψύξη με αέρα




Περιοχή εκθέσεως
Φ100 mm
110×110mm
Φ100 mm

150mm×150mm



Τρόπος έκθεσης
Συμβατή με υλικά κρασίας, μαλακά




Ανισότητα εκτύπωσης
Φ100mm<±3%<>
≤ ± 3%




Λεπτομέρεια εκτύπωσης
2μm
1 μμ




Ισχύς διαβήτη (365 nm)
≥6mw/cm²
≤40mw/cm2
≥5mw/cm2

0~30mw/cm2



Μη ομογενείς διαβήτες
≤±4%
≤ ± 3%




Γωνία μέγιστης απόκλισης UV φωτισμού




Περιοχή φωτισμού
≤Φ117mm
Φ117mm
≤Φ117mm

Μπροστά και πίσω ≥ Φ115mm



Λειτουργία εξάλειψης σφαλμάτων κατακόρυφων
Αυτόματη εξομοίωση σεμισφαιρικής μορφής

Αυτόματη εξάλειψη

3 σημεία αυτόματη εξομοίωση


Η ταξιδιωτική κίνηση των άξονα X και Y
±4mm
±5mm
±4mm

±5 mm



Η ταξιδιωτική κίνηση του θ
±3°
≤5°
≤±5º

≤0.5°



Επίλυση μετατόπισης υποστρώματος XYZ
0.5µm
0.3µm
0.3µm

0.01µm



Σύστημα μικροσκοπίου
Δύο μονό βαρέλ μικροσκόπια / Δύο κάμερες CCD




μέγεθος οθόνης
15 ίντσες.




Λύση συστήματος εικόνας
2µm
1.5µm
1.5µm

1.5µm



Απόσταση μέτρησης προστιμής και υποστρώτη
0.5 µm
0.3 µm




Διαγώνιος διάστασης επιφάνειας στόχου CCD
1/3, (6mm)



40mm~110mm

Μέγεθος πίνακα ρύθμισης
≤ Τετράγωνο 5*5 inch (Προσαρμοστέα προδιαγραφές)




Μέγεθος υποβάθρων
Φ 100mm ή τετράγωνο 100*100mm
τετράγωνο 60*49.5mm
2”-4”

1"x1"-5"x5"



Πάχος υποβάθρου
1-3 mm
≤5 mm
1-3 mm

≤5 mm



Αντλία κενού
Ελεύθερο από ελαιολάδι ηχήτα (-0.07~-0.08MPα)




Καθαρό συμπιεσμένο αέρα
≥0.4MPα




Χορήγηση ενέργειας
AC 220V±10% 50HZ 1.5KW




Βαθμός καθαρότητας δωματίου
Κλάση 100




Θερμοκρασία καθαρού δωματίου
25℃±2℃




Σχετική υγρασία του καθαρού δωματίου
≤60%




Άμπλιτουδα σεισμών του καθαρού δωματίου
≤4μm




Μέγεθος εξοπλισμού
1300 ×720×1600mm


1500 ×800×1600mm


Βάρος εξοπλισμού
200ΚΓ


280kg


Για την κατασκευή ενός συστήματος υψηλής ακρίβειας σύγκλισης χρειάζεται να έχει σχεδόν τέλεια μηχανική διαδικασία. Ένα άλλο τεχνικό πρόβλημα του συστήματος σύγκλισης είναι ο μικροσκόπιος σύγκλισης. Για να ενισχυθεί το πεδίο θέασης του μικροσκοπίου, πολλά υψηλότερα συστήματα φωτογραφικής χρησιμοποιούν φωτισμό LED. Υπάρχουν δύο σύνολα συστήματος σύγκλισης με λειτουργία focus. Αποτελείται κυρίως από δύο μάτια και δύο πεδία θέασης που στοχεύουν στο κύριο σώμα του μικροσκοπίου, ένα ζευγάρι οπτικών και ένα ζευγάρι φακών (τα συστήματα φωτογραφικής συνήθως παρέχουν οπτικά και φακές με διαφορετική μεγέθυνση για τους χρήστες). Η λειτουργία του συστήματος σύγκλισης CCD είναι να μεγεθύνει τα σημειώματα σύγκλισης του μάσκα και της δείγματος και να τα εικονογραφεί στον οθόνη.
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Η στάση εργασίας είναι μια κλειδιαίο μέρος της μηχανής λιθογραφίας, που αποτελείται από τη στάση συνολικής κίνησης προτύπου και δείγματος (XY), τη στάση σχετικής κίνησης προτύπου και δείγματος (XY), τη στάση περιστροφής, το μηχανισμό επιπέδωσης δειγμάτων, το μηχανισμό εστίασης δειγμάτων, τη στάση φέρεκα, το χαράκωμα προτύπου και τη στάση αποσύρσης προτύπου. Ο μηχανισμός επιπέδωσης δειγμάτων αποτελείται από ένα σφαιρικό καθίσμα και έναν ημικύκλιο. Κατά τη διαδικασία επιπέδωσης, πρώτα εφαρμόζεται πνευματική πίεση στο σφαιρικό καθίσμα και τον ημικύκλιο, και μετά το σφαιρικό καθίσμα, ο ημικύκλιος και το δείγμα κινούνται προς τα πάνω μέσω του ροδαρίου εστίασης, ώστε το δείγμα να επιπεδωθεί εναντίον του προτύπου, και τότε ο τριών θέσεων διπλού αεροσόλενοι πετσέτας μεταβάλλει το σφαιρικό καθίσμα και τον ημικύκλιο σε κενό για κλειδώσει και να διατηρήσει την κατάσταση επιπέδωσης.
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Aligner /Alignment Machine photolithography supplier
Aligner /Alignment Machine photolithography factory
Aligner /Alignment Machine photolithography details
Aligner /Alignment Machine photolithography factory



Η Minder-Hightech σας προσφέρει μια προηγμένη τεχνολογία για τη φωτολιθογραφία μέσω της μηχανής συναρτησιακοποίησης/συναρτησιακοποίησης.

 

Μπορείτε να κάνετε με προβλήματα λιγότερης ακρίβειας ενώ εκτυπώνετε κύκλους στα ηλεκτρονικά προϊόντα σας; Με το Aligner/Alignment Machine της Minder-Hightech, μπορείτε να είστε βέβαιοι ότι θα επιτύχετε υψηλή πrecisioν στην παραγωγή των εκτυπωμένων κύκλων σας.

 

Με αυτό το επαναστατικό αντικείμενο, μπορείτε να μεταφέρετε μια εικόνα υψηλής επιλύσιμης σε ένα προϊόν χρησιμοποιώντας φωτολιθογραφία. Αυτή η μηχανή εγγυάται ακρίβεια μέσω ενός λειτουργικού συστήματος σύμφωνης της ύλης με την εικόνα.

 

Μετά την εκτύπωση και μεταφόρτωση των εικόνων, η μηχανή υπολογίζει τον χρόνο εκκίνησης που απαιτείται και πώς η ύλη συμφωνεί με τις εικόνες. Αυτή η υπολογιστική διαδικασία γίνεται χρησιμοποιώντας την τελευταία λογισμική τεχνολογία που μπορεί να ενημερωθεί για να ανταποκριθεί στην ανάπτυξη της τεχνολογίας στη βιομηχανία παραγωγής.

 

Θα σας επιτρέψει να δημιουργήσετε μια ευρύτερη πλειάδα, συμπεριλαμβανομένων των μικροκυκλωμάτων, των ραδιοσυχνοτικών (RF) κυκλωμάτων και των ενσωματωμένων κυκλωμάτων. Το μοντέλο μπορεί να παράγει την καλύτερη βάθος εξόρυξης, πλάτος στιγμιογράφου και στοιχειοθεσία στρώματος με την προσθήκη διαφόρων πlementary διαδικασιών, όπως η χημεική εξόρυξη και η ηλεκτρολυτική καταχρυσαλίδωση.

 

Το πλεονέκτημα του προϊόντος μας βρίσκεται στην ικανότητά του να παράγει υψηλή στοιχειοθεσία, που εγγυάται ότι τα μοτίβα είναι τοποθετημένα με μεγάλη ακρίβεια στο υλικό. Μπορείτε να εκτυπώσετε εύκολα πολλά περίπλοκα σχέδια χωρίς καμία αλλαγή μορφής.

 

Είναι φιλικό προς τον χρήστη, συμπαγές και αποδοτικό, κάνοντάς το κατάλληλο για διάφορες εγκαταστάσεις παραγωγής ή μέγεθος επιχείρησης. Επιπλέον, το συστήμα μας περιλαμβάνει χειροκίνητη διατήρηση και εκπαίδευση στην τοποθεσία με την ομάδα τεχνικής υποστήριξης μας.

 

Το συστήμα Aligner/Alignment Machine της Minder-Hightech χρησιμοποιεί τεχνολογία φωτολιθογράφησης για να σας βοηθήσει να επιτύχετε τα καλύτερα αποτελέσματα κατά την εκτύπωση των κυκλωμάτων σας. Εμπνευσθείτε από μια νέα διάσταση τεχνολογίας που σας προσφέρει υψηλή ακρίβεια και ακρίβεια που δεν μπορεί να αντισταθεί από τις παραδοσιακές μεθόδους εκτύπωσης. Το σύστημα Aligner/Alignment Machine της Minder-Hightech είναι ακριβώς αυτό που απαιτεί η εταιρεία παραγωγής σας για να παραμείνετε μια βηματιά μπροστά στους ανταγωνιστές. Επικοινωνήστε μαζί μας σήμερα για να απολαύσετε τα πλεονεκτήματα της καλύτερης τεχνολογίας Aligner/Alignment Machine στην αγορά.


Ερώτημα

Ερώτημα Email whatsapp Top
×

ΣΥΝΔΕΘΕΙΤΕ ΜΑΖΙ ΜΑΣ