Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

HOME
ΠΟΙΟΙ ΕΙΜΑΣΤΕ
MH Εξοπλισμός
Λύση
Χρήστες από το εξωτερικό
Βίντεο
ΕΠΙΚΟΙΝΩΝΙΑ
product mcxj mls8 maskless lithography system-42
Αρχική σελίδα> Mask Aligner
  • Σύστημα λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8
  • Σύστημα λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8
  • Σύστημα λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8
  • Σύστημα λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8
  • Σύστημα λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8
  • Σύστημα λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8
  • Σύστημα λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8
  • Σύστημα λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8

Σύστημα λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8 Ελλάδα

ΠΕΡΙΓΡΑΦΗ ΠΡΟΪΟΝΤΟΣ
Δείγμα:
MCXJ-MLS8 Κατασκευή συστήματος λιθογραφίας χωρίς μάσκα
Διάγραμμα δομής εξοπλισμού
Προμηθευτής συστήματος λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8
Προμηθευτής συστήματος λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8
Χαρακτηριστικά
Διάγραμμα δομής ξενιστή έκθεσης
δομή
εικονογραφώ
Αποκάλυψη του πάγκου
Περιοχή έκθεσης: πάγκος, περιοχή τοποθέτησης υποστρώματος
Οπτικό σύστημα
Περιοχή καλουπώματος εκπομπής λέιζερ
Σύστημα περιβαλλοντικού ελέγχου
Ελέγξτε την εσωτερική θερμοκρασία και τη θετική πίεση της συσκευής
Σύστημα πλατφόρμας
Ελέγχει την κίνηση του πίνακα έκθεσης για την ολοκλήρωση της λειτουργίας της διαδρομής έκθεσης
Σύστημα ελέγχου
Σύστημα ελέγχου ολόκληρου του εξοπλισμού
Σημείωση: Επειδή η αναβάθμιση του μηχανήματος μπορεί να αλλάξει την πραγματική εμφάνιση, το συγκεκριμένο αντικείμενο στο πραγματικό προϊόν.
Όχι.
Περιβάλλον
Απαίτηση
1
Περιβάλλον πηγής φωτός
Κίτρινο φως
2
Θερμοκρασία
22 ℃ ± 2 ℃
3
Υγρασία
50% ± 10%
4
Καθαριότητα
1000
5
CDA
0.6±0.1Mpa, 200LPM, ξηρός, καθαρός αέρας
6
τροφοδοτικό
220~240V,50/60Hz,2.5KW· Το καλώδιο γείωσης πρέπει να είναι γειωμένο.
7
ψύξης νερού
Θερμ.: 10℃~ 20℃
Πίεση: 0.3 MPa ~ 0.5 MPa
Ρυθμός ροής: 20L/min
Διαφορά πίεσης: 0.3MPa以上
Διαμέτρημα ανάληψης: Rc3/8
8
Χώρος δεξίωσης
επίπεδο:±3mm/3000mm ανακίνηση:VC-B Ρουλεμάν:750kg/㎡
10
Internet
Μία θύρα δικτύου
11
το μέγεθος του μηχανήματος
1300 1100 * * 2100mm
12
Βάρος συσκευής
1500kg
Όχι.
ΕΡΓΟ
Spec.
Παρατήρηση
1
Ανάλυση
0.6um/ή άλλη απαίτηση
AZ703, AZ1350
2
CDU
±10%@1μ
3
Πάχος υποστρώματος
0.2 mm έως 4 mm
4
Ακρίβεια πλέγματος ημερομηνιών
60nm
5
Επικάλυμμα
± 500nm
130mmx130mm
6
Ακρίβεια ραφής
± 200nm
AZ703
7
ΜΕΓΙΣΤΟ μέγεθος έκθεσης
190X190mm
8
Διακίνηση
≥300mm2/min
≤50mj/cm2;
9
πηγή φωτός
LD 375nm
10
ελαφριά δύναμη
6W
11
Ενεργειακή ομοιομορφία
≥% 95
12
ελαφριά ζωή
10000hr
Συσκευασία & παράδοση
Προμηθευτής συστήματος λιθογραφίας χωρίς μάσκα MCXJ-MLS8
MCXJ-MLS8 Κατασκευή συστήματος λιθογραφίας χωρίς μάσκα
Εταιρικό Προφίλ
Έχουμε 16 χρόνια εμπειρίας στις πωλήσεις εξοπλισμού. Μπορούμε να σας παρέχουμε επαγγελματική λύση εξοπλισμού γραμμής πακέτου One-stop Semiconductor Front-end και Back end Package από την Κίνα.

Ερώτηση

product mcxj mls8 maskless lithography system-61Ερώτηση product mcxj mls8 maskless lithography system-62Email product mcxj mls8 maskless lithography system-63WhatsApp product mcxj mls8 maskless lithography system-64 WeChat
product mcxj mls8 maskless lithography system-65
product mcxj mls8 maskless lithography system-66Κορυφή
×

Ελάτε σε επαφή