Grafeen- ja süsiniknanotorumaterjalide / pooljuhtseadmete CVD-seadmed, Hiina CVD-seadmed grafeeni- ja süsiniknanotorumaterjalide / pooljuhtseadmete jaoks Tootjad, tarnijad, tehas

Tootekirjeldus

CVD-seadmed grafeeni ja süsinik-nanotoru materjalide jaoks

Seadmeid kasutatakse peamiselt grafeeni ja nanomaterjalide protsessikatmiseks; Polükristallilise räni ja ränikarbiidi difusioon, oksüdeerimine ja lõõmutamine.

Grafeen- ja süsiniknanotorumaterjalide CVD-seadmed / pooljuhtseadmete üksikasjad

CVD-seadmed grafeeni- ja süsiniknanotorumaterjalide jaoks / pooljuhtseadmete tehas

spetsifikatsioon

struktuurne stiil	Horisontaalne, ühe toruga või mitme toruga süsteemi automaatjuhtimine
Kohandage vahvli suurusele	2–8 ″
Vahvlite kohaletoimetamise ja väljavõtmise meetod	Automaatne konsooliga kvarts-tõukepaat, mis on kombineeritud käsitsi laastu võtmise ja vabastamisega.
maksimaalne temperatuur	1050 ℃
töötemperatuur	400 ℃ ~ 850 ℃ pidevalt reguleeritav
Ühepunktiline temperatuuristabiilsus	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Süsteemi piirvaakum	Parem kui 1Pa
pumpamise kiirus	Pumpamisaeg vaakumi piiramiseks ＜ 15 min
Töörõhu vahemik	Pidevalt reguleeritav 5Pa kuni 1 × 105Pa
Toiteallikas	3-faasiline 5-juhtmeline 380V±10%，50Hz
jahutusvesi	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Pakkimine ja kohaletoimetamine

Firmast

Omame 16-aastast seadmete müügikogemust. Pakume teile Hiinast pärit ühekordse pooljuhtide esiosa ja tagaosa paketiliini seadmete professionaalset lahendust.