CVD seade grafeeni ja süsiniku nanorähadega materjalide jaoks / Semikonduktorite seade , China CVD seade grafeeni ja süsiniku nanorähadega materjalide jaoks / Semikonduktorite seade Manufacturers, Suppliers, Factory

Toote kirjeldus

CVD seadmed graafeeni ja süsiniknanorõngade materjalidele

Seade kasutatakse peamiselt graafeeni ja nanoelementide katsendite kaubanduseks; Polükrüstaallise silidi ja siilidi karbidide levitamine, oksidatsioon ja annealimine.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Spetsifikatsioon

struktuuri stiil	Horisontaalne, ühe- või mitmetubeline süsteem automaatse juhtimisega
Sobib kivepuhu suurusele	2-8″
Kivepuhu toimetamine ja tagasisaamine	Automaatne kantliivertikoolitsoonide gaaslaev, mis on kombineeritud käeoperatsiooniga kristalli võtmiseks ja vabastamiseks.
Maksimaaltemperatuur	1050℃
töötemperatuur	400 ℃~850 ℃ pidevalt kohanduv
Ühepunktse temperatuuri stabiilsus	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Süsteemi piirvakuum	Paraneb 1Pa-st
Pumpeerimissuundmees	Aega piirvakuumini pumpeerimiseks < 15Min
Tööpingepiirkond	5Pa kuni 1 × 105Pa pidevalt kohanduv
Elektritoitus	3 faasi 5-jookseline 380V±10%, 50Hz
Jäätmete veesüsteem	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Pakendamine ja kohaletoimetamine

Ettevõtte profiil

Meil on 16-aastane kogemus seadmete müügiga. Me võime pakkuda sulle ühepealsest lahenduse Semi-konduktori esimesest ja viimasest pakendi järjestusest Hiinast.