CVD-laitteisto grafeeni- ja hiilitikkujen materiaaleille / Semanttinen laite , China CVD-laitteisto grafeeni- ja hiilitikkujen materiaaleille / Semanttinen laite Manufacturers, Suppliers, Factory

Tuotekuvaus

CVD-laitteisto grafeeni- ja hiilinäkymateriaaleja

Laitteisto käytetään pääasiassa grafeenin ja nanomateriaalien peittämisen prosessointiin; Polysilikonin ja siiliakarbidin levitys, oksidointi ja anealoituminen.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

MITTATIETOE

rakenneasu	Vaakasuuntainen, yksittäinen tai monitube-järjestelmä automaattinen ohjaus
Sopii kiekkojen kokoon	2-8"
Kiekon toimitus- ja nouto-tapa	Automaattinen kantapilkko-kvartsi vetopaine-alus, jossa on yhdistetty käsin tapahtuva chipsien ottaminen ja julkaiseminen.
Maksimi lämpötila	1050℃
Toimintalämpötila	400 ℃~850 ℃ jatkuvasti säätökykyinen
Yksikelpoinen lämpötilan vakaus	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Järjestelmän rajoittava tyhjiö	Parempi kuin 1Pa
pumppausnopeus	Pumppaustime rajoittavaan tyhjiöön < 15Min
työpainealue	5Pa:sta 1 × 105Pa jatkuvasti säätökykyinen
Virranlähtö	3-faasin 5-johdin 380V±10%, 50Hz
Jäähdytysvesi	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Pakkaus & Toimitus

Yrityksen profiili

Meillä on 16 vuotta kokemusta laitteiden myynnistä. Voimme tarjota sinulle yhdenmukaisen ratkaisun semioperaattorien edustajan ja jälkeenpäin pakkauslinjan laitteista Kiinasta.