CVD-laitteet grafeeni- ja hiilinanoputkimateriaaleille / puolijohdelaitteet , Kiina CVD-laitteet grafeeni- ja hiilinanoputkimateriaaleille / puolijohdelaitteiden valmistajat, toimittajat, tehdas

Tuotteen Kuvaus

CVD-laitteet grafeeni- ja hiilinanoputkimateriaaleille

Laitteita käytetään pääasiassa grafeeni- ja nanomateriaalien prosessipinnoittamiseen; Monikiteisen piin ja piikarbidin diffuusio, hapetus ja hehkutus.

CVD-laitteet grafeeni- ja hiilinanoputkimateriaaleille / Puolijohdelaitteiden tehdas

määrittely

rakenteellinen tyyli	Vaaka-, yksiputki- tai moniputkijärjestelmän automaattinen ohjaus
Mukauta kiekon kokoon	2-8 tuumaa
Vohvelin toimitus- ja palautustapa	Automaattinen uloke kvartsi push-pull vene yhdistettynä manuaaliseen lastun ottoon ja irrottamiseen.
enimmäislämpötila	1050 ℃
Työskentelylämpötila	400 ℃ ~ 850 ℃ portaattomasti säädettävissä
Yhden pisteen lämpötilavakaus	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Järjestelmän rajatyhjiö	Parempi kuin 1Pa
pumppausnopeus	Pumppausaika tyhjiön rajoittamiseen ＜ 15min
Työpainealue	5Pa - 1 × 105Pa portaattomasti säädettävissä
Virtalähde	3-vaiheinen 5-johdin 380V±10%，50Hz
jäähdytysvesi	2 ~ 4 kgf/cm², 8 l/min;

Pakkaus ja toimitus

Yrityksen profiili

Meillä on 16 vuoden kokemus laitemyynnistä. Voimme tarjota sinulle One-stop Semiconductor Front-end- ja Back end Package Line -laitteiden ammattimaisen ratkaisun Kiinasta.