Machine de retrait de photorésine à plasma sec ICP pour l'élimination de la résine photosensible ASKING DESCUM, Chine Machine de retrait de photorésine à plasma sec ICP pour l'élimination de la résine photosensible ASKING DESCUM Fabricants, fournisseurs, usine

Déscription

Machine d'élimination de photorésiste au plasma sec ICP

La machine d'élimination de photoréserve au plasma sec ICP est principalement utilisée pour éliminer les polymères, les CENDRES, le DESCUM, l'élimination de la photoréserve après implantation ionique et l'élimination des résidus de surface. La cavité convient aux échantillons de 4 à 8 pouces, avec 1 à 2 pièces traitées en un seul processus.

CENDRAGE
Élimination des polymères
Enlèvement à sec de la couche dure du masque
Élimination de la photorésistance après implantation ionique
Suppression de la photorésistance dans le procédé BAW/SAW
Nettoyage à sec de la couche de film graphique antireflet
Élimination des résidus de surface
Nettoyage de surface après gravure
DESCUM

DEMANDER DESCUM retrait de photoresist ICP détails de la machine de retrait de photoresist à plasma sec

DEMANDE DE retrait de photorésist DESCUM Usine de machine de retrait de photorésist au plasma sec ICP

Spécification

PLASMA			RF	RF
Puissance	ICP	1000w	1000w
Puissance		BIAIS	600w (option)	600w (option)
Portée applicable			4~8 heures	4~8 heures
Nombre de tranches de traitement unique			1	2
Dimensions d'apparence			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Controle du système			Système de contrôle industriel	Système de contrôle industriel
Niveau d'automatisation			automatique	automatique

Usine de chars

Détails du produit

Emballage & livraison

À propos de nous

16 ans d'expérience dans l'exportation d'équipements！ Nous pouvons vous fournir une solution unique de processus et d'équipements frontaux de semi-conducteurs !