DEMANDE DESCUM retrait du photo-résist Machine de retrait du photo-résist par plasma sec ICP , China DEMANDE DESCUM retrait du photo-résist Machine de retrait du photo-résist par plasma sec ICP Manufacturers, Suppliers, Factory

Description du produit

Machine de retrait de photorésistante par plasma sec ICP

La machine de retrait de photorésistante par plasma sec ICP est principalement utilisée pour enlever les polymères, ASHING, DESCUM, retrait de photorésistante après implantation ionique et élimination des résidus de surface. La cavité convient aux échantillons de 4 à 8 pouces, avec 1 à 2 pièces traitées en un seul processus.

Lessivage
Retrait de polymère
Retrait sec de la couche de masque dur
Retrait de photo-résistance après implantation ionique
Retrait de la photo-résistance dans le processus BAW/SAW
Nettoyage à sec du film graphique anti-réfléchissant
Élimination des résidus de surface
Nettoyage de surface après étchage
DESCUM

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine factory

Spécification

Les produits			RF	RF
Puissance	ICP	1000W	1000W
Puissance		BIAS	600w(option)	600w(option)
Domaine d'application			4~8寸	4~8寸
Nombre de tranches traitées individuellement			1	2
Dimensions extérieures			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Contrôle du système			Système de contrôle industriel	Système de contrôle industriel
Niveau d'automatisation			automatique	automatique

Usine

DÉTAILS DU PRODUIT

Emballage et livraison

Profil de l'entreprise

16 ans d'expérience dans l'exportation d'équipements ! Nous pouvons vous fournir une solution complète pour les processus et équipements de traitement en amont de la semi-conductivité !