Équipement CVD pour matériaux en graphène et nanotubes de carbone / Équipements semi-conducteurs, Chine Équipement CVD pour matériaux en graphène et nanotubes de carbone / Équipements semi-conducteurs Fabricants, Fournisseurs, Usine

Déscription

Équipement CVD pour les matériaux en graphène et en nanotubes de carbone

L'équipement est principalement utilisé pour le traitement du revêtement de graphène et de nanomatériaux ; Diffusion, oxydation et recuit du silicium polycristallin et du carbure de silicium.

Équipement CVD pour les matériaux en graphène et en nanotubes de carbone / Usine d'équipements semi-conducteurs

Spécification

style structurel	Automatisme de système horizontal, monotube ou multitube
S'adapter à la taille de la plaquette	2-8 ″
Méthode de livraison et de récupération de tranche	Bateau push-pull à quartz en porte-à-faux automatique, combiné à une prise et une libération manuelles des copeaux.
Température maximale	1050 ℃
température de fonctionnement	400 ℃ ~ 850 ℃ réglable en continu
Stabilité de la température en un seul point	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Vide limite du système	Mieux que 1Pa
vitesse de pompage	Temps de pompage pour limiter le vide ＜ 15Min
Plage de pression de travail	5Pa à 1 × 105Pa réglable en continu
Source d'alimentation	Triphasé 3 fils 5 V ± 380 %, 10 Hz
eau de refroidissement	2 ~ 4 kgf/cm², 8 L/min ;

Emballage & livraison

À propos de nous

Nous avons 16 ans d'expérience dans la vente d'équipements. Nous pouvons vous fournir une solution professionnelle unique d’équipements de ligne de paquets de semi-conducteurs front-end et back-end en provenance de Chine.