Équipement CVD pour matériaux en graphène et nanotubes de carbone / Équipement semi-conducteur , China Équipement CVD pour matériaux en graphène et nanotubes de carbone / Équipement semi-conducteur Manufacturers, Suppliers, Factory

Description du produit

Équipement CVD pour matériaux en graphène et nanotubes de carbone

L'équipement est principalement utilisé pour le revêtement de processus de matériaux en graphène et nano-matériaux; Diffusion, oxydation et recuit du polysilicium et du carbure de silicium.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Spécification

style structurel	Horizontal, système à simple tube ou multi-tube avec contrôle automatique
Adapté à la taille de galette	2-8"
Méthode de livraison et de récupération des galettes	Bateau à quartz à charnière automatique poussant et tirant, combiné avec une prise et un relâchage manuels des puces.
Température maximale	1050℃
Température de fonctionnement	400 ℃~850 ℃ continuellement ajustable
Stabilité de la température à un seul point	400℃~850℃≤±0,5℃/24h
Vide limite du système	Meilleur que 1Pa
vitesse de pompage	Temps de pompage jusqu'au vide limite < 15Min
plage de pression de travail	5Pa à 1 × 105Pa continuellement ajustable
Alimentation	3 phases 5 fils 380V±10%, 50Hz
Eau de refroidissement	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Emballage et livraison

Profil de l'entreprise

Nous avons 16 ans d'expérience dans la vente d'équipements. Nous pouvons vous fournir une solution professionnelle clé en main pour les lignes d'emballage avant et arrière du secteur semi-conducteur en Chine.