Suppression du photo-résist par plasma ICP / Machine de retrait du photo-résist (PR) par plasma pour galette semi-conductrice , China Suppression du photo-résist par plasma ICP / Machine de retrait du photo-résist (PR) par plasma pour galette semi-conductrice Manufacturers, Suppliers, Factory

Description du produit

Machine de retrait du photo-résist par plasma ICP

lessivage
Retrait de polymère
Retrait sec de la couche de masque dur
Retrait de photo-résistance après implantation ionique
Retrait de la photo-résistance dans le processus BAW/SAW
Nettoyage à sec du film graphique anti-réfléchissant
Élimination des résidus de surface
Nettoyage de surface après étchage
DESCUM

La machine à plasma sèche ICP pour le retrait de la photo-résistance est adaptée pour DESCUM (pré-traitement, retrait des résidus de photo-résistance) Retrait de polymères (PI, BCB, PBO) Après implantation ionique, retrait de la photo-résistance, etc., la chambre est compatible avec des échantillons de 8 pouces (compatible 4-6 pouces)

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details

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Spécification

Les produits			rF	rF
Puissance	ICP	1000W	1000W
Puissance		BIAS	600w(option)	600w(option)
Domaine d'application			4~8 pouces	4~8 pouces
Nombre de tranches traitées individuellement			1	2
Dimensions extérieures			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Contrôle du système			Système de contrôle industriel	Système de contrôle industriel
Niveau d'automatisation			automatique	automatique