Machine d'élimination de photorésist par plasma sec ICP / Machine d'élimination de photorésist par plasma (PR) pour plaquettes de semi-conducteurs, Chine Machine d'élimination de photorésist par plasma sec ICP / Machine d'élimination de photorésist par plasma (PR) pour plaquettes de semi-conducteurs Fabricants, Fournisseurs, Usine

Déscription

ICP PLASMA enlève la machine de photorésist

CENDRAGE
Élimination des polymères
Enlèvement à sec de la couche dure du masque
Élimination de la photorésistance après implantation ionique
Suppression de la photorésistance dans le procédé BAW/SAW
Nettoyage à sec de la couche de film graphique antireflet
Élimination des résidus de surface
Nettoyage de surface après gravure
DESCUM

La machine d'élimination de photorésine au plasma sec ICP convient au DESCUM (prétraitement, élimination des résidus de photorésine) Élimination des polymères (PI, BCB, PBO) Après l'implantation ionique, l'élimination de la photorésine, etc., la cavité convient aux échantillons de 8 pouces (4 -6 pouces compatibles)

Machine d'élimination du photorésist par plasma sec ICP/PR (Plasma Photoresist) pour les détails des plaquettes semi-conductrices

Machine d'élimination de photorésist par plasma sec ICP / élimination de photorésist par plasma (PR) pour fournisseur de plaquettes semi-conductrices

Machine d'élimination de photorésist par plasma sec ICP/PR pour la fabrication de plaquettes semi-conductrices

Machine d'élimination de photorésist par plasma sec ICP/PR (Plasma Photoresist) pour usine de plaquettes semi-conductrices

Spécification

PLASMA			RF	RF
Puissance	ICP	1000w	1000w
Puissance		BIAIS	600w (option)	600w (option)
Portée applicable			4 ~ 8 pouces	4 ~ 8 pouces
Nombre de tranches de traitement unique			1	2
Dimensions d'apparence			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Controle du système			Système de contrôle industriel	Système de contrôle industriel
Niveau d'automatisation			automatique	automatique