Solution intégrée pour la machine d'élimination de la résine photosensible au plasma micro-ondes pour l'emballage de semi-conducteurs, Chine Solution intégrée pour la machine d'élimination de la résine photosensible au plasma micro-ondes pour l'emballage de semi-conducteurs Fabricants, fournisseurs, usine

Déscription

Machine d'élimination de photorésiste au plasma à micro-ondes

Solution intégrée au plasma pour le conditionnement des semi-conducteurs

Solution intégrée pour le conditionnement des semi-conducteurs

La machine d'élimination de photorésiste au plasma micro-ondes est un système d'élimination de photorésiste au plasma micro-ondes basse tension spécialement conçu pour les semi-conducteurs. En appliquant une fréquence de micro-ondes de 2.45 GHz à la fenêtre située sur la paroi de la chambre à vide, une quantité importante et continue de plasma est générée, qui pénètre dans la chambre pour le processus de nettoyage de la puce. Adapté à différentes tailles de boîtes de matériaux, il peut répondre à différents besoins et fournir des solutions personnalisées.

Solution intégrée pour l'emballage de semi-conducteurs Fournisseur de machine d'élimination de photorésiste au plasma micro-ondes

Solution intégrée pour la fabrication de machines d'élimination de photorésistes au plasma micro-ondes pour l'emballage de semi-conducteurs

Spécification

Source PLASMA	micro-onde
power	0-1250W
Espace de travail	6 gammes de magazines (gamme de tailles de magazines : L260mmxW95mmxH190mm)
la capacité de traitement	Pas de 35 um/bosse de 40 um, taille de matrice maximale de 15x15mm
Dimensions d'apparence	480mmx470mmx500mm
Controle du système	Système de contrôle industriel
Niveau d'automatisation	Manuel

Usine de chars

Solution intégrée pour l'emballage de semi-conducteurs Usine de machine d'élimination de photorésiste au plasma micro-ondes

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