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  • MCXJ-MLS8 Système de lithographie sans masque
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MCXJ-MLS8 Système de lithographie sans masque

Description du produit
Échantillon :
MCXJ-MLS8 Maskless lithography System manufacture
Diagramme de la structure de l'équipement
MCXJ-MLS8 Maskless lithography System supplier
MCXJ-MLS8 Maskless lithography System supplier
Spécification
Diagramme de la structure de l'hôte d'exposition
structure
donnez un exemple
Table d'exposition
Zone d'exposition : table, zone de placement du substrat
Système optique
Zone de moulage d'émission laser
Système de contrôle environnemental
Contrôle de la température interne et de la surpression de l'appareil
Système de plateforme
Contrôle le mouvement de la table d'exposition pour terminer l'opération du chemin d'exposition
Système de contrôle
Système de contrôle de tout l'équipement
Note : En raison de la mise à niveau de la machine, l'apparence réelle peut changer, se référer au produit réel.
Non.
Environnement
Exiger
1
Environnement de source lumineuse
Lumière jaune
2
Température
22℃±2℃
3
Humidité
50%±10%
4
La propreté
1000
5
CDA
0,6±0,1Mpa, 200LPM, air sec et propre
6
Alimentation
220~240V, 50/60Hz, 2,5KW ; La terre doit être correctement reliée
7
Eau de refroidissement
Temp. : 10℃~ 20℃
Pression : 0.3MPa ~ 0.5MPa
Débit : 20L/min
Différence de pression : 0.3MPa ou plus
Calibre de raccordement : Rc3/8
8
Lieu
niveau : ±3mm/3000mm vibration : VC-B Roulement : 750kg/㎡
10
Internet
Un port réseau
11
Taille de la machine
1300*1100*2100mm
12
Poids de l'appareil
1500 kg
Non.
Projet
- Des spécifications.
Remarque
1
Résolution
0,6um/ou autre exigence
AZ703, AZ1350
2
CDU
±10%@1um
3
Épaisseur du substrat
0.2mm~4mm
4
Précision de la grille de dates
60nm
5
Superposition
±500nm
130mmx130mm
6
Précision d'assemblage
±200nm
AZ703
7
Taille de l'exposition MAX
190X190mm
8
Débit
≥300mm²/min
≤50mj/cm²;
9
source lumineuse
LD 375nm
10
puissance lumineuse
6W
11
Uniformité d'énergie
≥95%
12
durée de vie de l'éclairage
10000h
Emballage et livraison
MCXJ-MLS8 Maskless lithography System supplier
MCXJ-MLS8 Maskless lithography System manufacture
Profil de l'entreprise
Nous avons 16 ans d'expérience dans la vente d'équipements. Nous pouvons vous fournir une solution professionnelle clé en main pour les lignes d'emballage avant et arrière du secteur semi-conducteur en Chine.

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