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  • Système de lithographie sans masque MCXJ-MLS8
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Système de lithographie sans masque MCXJ-MLS8

Déscription
Échantillon:
Fabrication du système de lithographie sans masque MCXJ-MLS8
Schéma de la structure de l'équipement
Fournisseur du système de lithographie sans masque MCXJ-MLS8
Fournisseur du système de lithographie sans masque MCXJ-MLS8
Spécification
Diagramme de la structure de l'hôte d'exposition
structure
illustrer
Exposer le comptoir
Zone d'exposition : comptoir, zone de placement du substrat
Système optique
Zone de moulage par émission laser
Système de contrôle de l'environnement
Contrôler la température interne et la pression positive de l'appareil
Système de plate-forme
Contrôle le mouvement de la table d'exposition pour terminer le fonctionnement du chemin d'exposition
Système de contrôle
Système de contrôle de l'ensemble de l'équipement
Remarque : étant donné que la mise à niveau de la machine peut modifier l'apparence réelle, les spécificités du produit réel.
No.
Environnement
Exiger
1
Environnement de la source lumineuse
Lumière jaune
2
Température
22 ℃ ± 2 ℃
3
Humidité
50% ± 10%
4
Propreté
1000
5
CDA
0.6 ± 0.1 MPa, 200 LPM, air sec et propre
6
Source d'alimentation
220 ~ 240 V, 50/60 Hz, 2.5 kW ; le fil de terre doit être mis à la terre.
7
L'eau de refroidissement
Température : 10 ℃ ~ 20 ℃
Pression : 0.3 MPa ~ 0.5 MPa.
Débit : 20 L/min
Différence de pression : 0.3 MPa.
Reprendre le calibre : Rc3/8
8
Lieu
niveau:±3mm/3000mm secousse:VC-B Roulement:750kg/㎡
10
Internet
Un port réseau
11
taille de la machine
1300 * 1100 * 2100mm
12
Poids de l'appareil
1500kg
No.
Projet
Spec.
Remarque
1
Résolution
0.6 um/ou autre exigence
AZ703, AZ1350
2
CDU
±10% @ 1um
3
Épaisseur du substrat
0.2 mm ~ 4 mm
4
Précision de la grille de dates
60nm
5
Recouvrir
± 500nm
130mmx130mm
6
Précision de couture
± 200nm
AZ703
7
Taille d'exposition maximale
190X190mm
8
Cadence de production
≥300mm2/min
≤50mJ/cm2;
9
Source de lumière
LD 375 nm
10
Puissance légère
6W
11
Uniformité énergétique
≥95%
12
vie légère
10000hr
Emballage & livraison
Fournisseur du système de lithographie sans masque MCXJ-MLS8
Fabrication du système de lithographie sans masque MCXJ-MLS8
À propos de nous
Nous avons 16 ans d'expérience dans la vente d'équipements. Nous pouvons vous fournir une solution professionnelle unique d’équipements de ligne de paquets de semi-conducteurs front-end et back-end en provenance de Chine.

Objet de la demande

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