Type |
MDPS-560 II |
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Chambre principale d'éclaboussement |
chambre sous vide en forme de poire, dimensions : Φ560×350mm |
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Chambre d'injection d'échantillon |
type cylindrique horizontal, dimensions : Φ250mm×420mm |
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Système de pompage |
ensemble de pompes moléculaires composites et de pompes mécaniques indépendantes pour la chambre principale d'éclaboussement et la chambre d'injection d'échantillon. |
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Vide ultime |
Chambre principale d'éclaboussement |
≤6,67×10-6Pa (après cuisson et dégazage) |
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Chambre d'injection d'échantillon |
≤6,67×10-4Pa (après cuisson et dégazage) |
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Temps de régénération du vide |
Chambre principale d'éclaboussement |
6,6×10-4Pa après 40 min. (pompage après une courte exposition à l'air et rempli avec de l'azote sec) |
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Chambre d'injection d'échantillon |
6,6×10-3Pa après 40 min. (pompage après une courte exposition à l'air et rempli avec de l'azote sec) |
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Module Cible Magnetron |
5 cibles magnétiques permanentes ; taille Φ60mm (l'une des cibles peut pulvériser un matériau ferromagnétique). Toutes les cibles peuvent être pulvérisées en RF et compatibles avec la pulvérisation DC ; et la distance entre la cible et l'échantillon est ajustable de 40 mm à 80 mm. |
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Table de Révolution avec Chauffage du Substrat Refroidi par Eau |
Structure du Substrat |
Six stations, un four chauffant installé sur une station, et les autres sont des stations de substrat refroidi par eau. |
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Taille |
Φ30mm, six pièces. |
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Mode de mouvement |
0-360°, alterné. |
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Chauffage |
Température maximale 600℃±1℃ |
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Biais négatif du substrat |
-200V |
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Système de circuit de gaz |
Contrôleur de débit massique à 2 voies (MFC) |
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Chambre d'injection d'échantillon |
Chambre d'échantillonnage |
Six simples en une fois |
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Annealeur |
Température maximale de chauffage 800℃±1℃ |
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Module de cible de resputtering |
Nettoyage par resputtering |
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Système d'envoi d'échantillons magnétiques |
Utilisé pour le transport des échantillons entre la chambre de sputtering et la chambre d'injection d'échantillons. |
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Système de contrôle informatique |
Rotation de l'échantillon, ouverture et fermeture du volet, et contrôle de la position de la cible |
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Espace au sol occupé |
Ensemble principal |
2600×900mm2 |
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Armoire électrique |
700×700mm2 (deux ensembles) |
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