* Chauffage par lampe infrarouge au halogène, refroidissement à l'aide de refroidissement par air;
* Contrôle PID de la température pour la puissance de la lampe, qui peut contrôler précisément l'augmentation de température, garantissant une bonne reproductibilité et uniformité thermique;
* L'entrée du matériau est positionnée sur la surface du WAFER pour éviter la formation de points froids pendant le processus de recuit et garantir une bonne uniformité thermique du produit;
* Les méthodes de traitement à l'atmosphère et sous vide peuvent toutes deux être sélectionnées, avec un prétraitement et une purification du corps;
* Deux ensembles de gaz de processus sont standard et peuvent être étendus jusqu'à 6 ensembles de gaz de processus;
* La taille maximale d'un échantillon mesurable de silicium monocristallin est de 12 pouces (300x300 mm);
* Les trois mesures de sécurité, à savoir la protection d'ouverture à température sécurisée, la protection d'autorisation d'ouverture du contrôleur de température et la protection d'arrêt d'urgence de l'équipement, sont pleinement mises en œuvre pour garantir la sécurité de l'instrument;