Équipements pour l'industrie des semi-conducteurs MDLB-MC200 Nettoyeur de photomask

Non.

Projet

CARACTÉRISTIQUES

Remarques

1

Aperçu de l'équipement

Nom de l'appareil : Nettoyeur de photomask

Modèle d'équipement : MDLB-MC200

Dimensions globales (environ) : 1300mm (L) * 1000mm (P) * 1950mm (H)

Poids total de la machine (environ) : 300KG

Hauteur de la table de travail : 900 ± 50mm

Spécifications des dimensions du substrat : convient aux masques carrés de 2/4/5/6/8 pouces

Procédé : placement manuel de la wafer → nettoyage (brosse, solution de nettoyage → eau haute pression → eau mégasonique → eau déionisée → séchage à l'air sec à base de gaz nitrogen) → retrait manuel de la wafer

Type d'équipement : semi-automatique, chargement et déchargement manuels

2

Construction de l'équipement

Coque : acier inoxydable, lisse, résistante à la corrosion, facile à nettoyer

Chambre de nettoyage : PP, lisse, résistante à la corrosion, facile à nettoyer

Conduite : conduite en PU/PFA utilisée

Éclairage de travail : éclairage anti-corrosion jaune

Style d'ouverture de la porte : double porte avec fonction d'alarme d'ouverture de porte

Écran tactile : écran tactile couleur de 10 pouces * 1

FFU : classe 100

Support antifuite : disponible

3

Moteur servo de haute précision

Quantité : 1

Vitesse : -3000~3000 tr/min

Charge inexistante

Accélération maximale de la rotation de l'arbre : 3000 tr/min/s

Charge inexistante

Précision de vitesse : ± 1 tr/min (50 tr/min~3000 tr/min)

Résolution de vitesse : 1 tr/min

4

Bras oscillant automatique

Quantité : 3

Vitesse du bras oscillant : 1~30 °/s

5

Unité de nettoyage

Nettoyage du bras oscillant : 1 voie d'eau déionisée, 1 voie de gaz d'azote

Bras Méga-sonique : 1 Méga-sonique, 1 Eau sous haute pression

Brosse à bras : 1 brosse, 1 eau, 1 solution de nettoyage

Méthode de nettoyage : nettoyage automatique

Fonction d'aspiration d'eau déionisée : disponible

Rinçage (eau déionisée) : 1 circuit

Méthode d'alimentation : Solution de nettoyage : Pompe à diaphragme

Eau déionisée : fournie directement par l'usine

Réservoir sous pression avec détection du niveau de liquide

6

Brosse à brosse

Quantité : 1 (avec fonction de nettoyage automatique)

Vitesse : jusqu'à 1000 tr/min, vitesse ajustable

Hauteur ajustable manuellement

7

Plateau de chargement

Quantité : 5

Matériau : PPS + acier inoxydable

Taille : Convient pour des plaques de masque carrées de 2/4/5/6/8 pouces

Méthode de fixation du substrat : Méthode de fixation par griffes

8

Système de contrôle

Système de contrôle : Utilisation d'un contrôle PLC

Programme : 100 groupes, chaque groupe composé de 100 étapes, avec un temps maximum par étape de 3000,0 secondes

Résolution : 0,1S

Le programme peut être enregistré, appelé, modifié et supprimé

Définir les permissions de chiffrement : pour les opérateurs d'appareil, les techniciens, les administrateurs et les fabricants respectivement

Type de tour de signal : rouge, jaune, vert 3 couleurs