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machine de retrait de photorésist résiduel par plasma par lots de type cassette de l'industrie des semi-conducteurs-42
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  • Machine d'élimination des résidus de photorésistation, type de Cassette pour l'industrie des semi-conducteurs, plasma par lots
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Machine d'élimination des résidus de photorésistation, type de Cassette pour l'industrie des semi-conducteurs, plasma par lots

Déscription

Machine de retrait de plasma PR par lots de type cassette

DESCUM
Nettoyage des plaquettes
Enlever les résidus de colle après un processus humide
Élimination des résidus de surface
Enlever les résidus de colle après exposition et développement
Industrie des semi-conducteurs Type de cassette Machine d'élimination des PR plasma par lots Fabrication d'élimination des résidus de photorésiste
Processus
Industrie des semi-conducteurs Type de cassette Machine d'élimination des PR plasma par lots Fabrication d'élimination des résidus de photorésiste
Industrie des semi-conducteurs Type de cassette Machine d'élimination des PR plasma par lots Usine d'élimination des résidus de photorésiste
Industrie des semi-conducteurs Type de cassette Machine d'élimination des PR plasma par lots Usine d'élimination des résidus de photorésiste
Industrie des semi-conducteurs Type de cassette Machine d'élimination des PR plasma par lots Détails de l'élimination des résidus de photorésiste
Industrie des semi-conducteurs Type de cassette Machine d'élimination des PR plasma par lots Fournisseur d'élimination des résidus de photorésiste
Industrie des semi-conducteurs Type de cassette Machine d'élimination des PR plasma par lots Détails de l'élimination des résidus de photorésiste
Avantage:

Avantage de base

Taux de dégommage élevé : plasma haute densité, taux de dégommage rapide
Stabilité : Après traitement plasma, haute reproductibilité
Plasma distant : plasma distant, faibles dommages ioniques sur la plaquette
Logiciel présenté : recherche et développement indépendants de logiciels, animation intuitive des processus, données et enregistrements détaillés
Uniformité : le plasma peut contrôler la pression et la température grâce à une vanne papillon
Facteur de sécurité : un plasma faible réduit les dommages causés par la décharge du produit.
Service après-vente : réponse rapide et inventaire suffisant
Contrôle de la poussière : Répondez aux exigences des clients.
Technologie de base : Avec près de 40 % des membres de l’équipe R&D

Plate-forme de cassettes (MD-ST 6100/620)

1. 4 supports de plaquettes
2. Compatibilité élevée : la flexibilité de sélection de la taille des plaquettes apporte un coût élevé et une efficacité de la solution
3. Chambre de transfert sous vide haute stabilité :
La conception mature et stable de la transmission sous vide est appliquée avec maturité sur le marché depuis de nombreuses années et est bien reconnue par les clients.
Conception du plateau tournant, espace compact, réduisant considérablement le risque de PARTIQUE
4. Interface de fonctionnement du logiciel humanisée :
Interface de fonctionnement logicielle humanisée et intuitive, surveillance en temps réel de l'état de fonctionnement de la machine ;
Alarme complète et fonctions infaillibles pour éviter les erreurs de fonctionnement.
Fonction d'exportation de données puissante, enregistrements de divers paramètres de processus et exportation des enregistrements de production de produits.
Industrie des semi-conducteurs Type de cassette Machine d'élimination des PR plasma par lots Fabrication d'élimination des résidus de photorésiste
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Robot

1. La conception unique de sélection et de placement de double plaquette apporte une productivité élevée
2. Améliorer l'efficacité de l'espace.
Industrie des semi-conducteurs Type de cassette Machine d'élimination des PR plasma par lots Fournisseur d'élimination des résidus de photorésiste
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Plaque chauffante

1. Plaque de plaquette de contrôle de température de haute précision
Plaque chauffante pour plaquettes de la température ambiante à 250°C, précision du contrôle de la température ±1°C
La plaque chauffante des plaquettes a été calibrée par des instruments professionnels et l'uniformité. À ± 3°C, assurez l’uniformité du retrait de la colle
2. Traitement double plaquette à chambre unique
Conception à chambre unique et double plaquette ;
Conception de décharge de puissance indépendante pour chaque tranche, garantissant que chaque tranche. Effet de suppression des PR ronds ;
Dans le but d’assurer l’efficacité de l’UPH, réduisez le coût du produit. Forte compatibilité
3. Capacité de production : chambre de réaction de conception en deux parties, efficacité de production élevée.
Industrie des semi-conducteurs Type de cassette Machine d'élimination des PR plasma par lots Usine d'élimination des résidus de photorésiste
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Spécification
Source PLASMA
RF
micro-onde
Puissance
1000w
1250w
Portée applicable
4 ~ 8 pouces
4~8 heures
Nombre de tranches de traitement unique
4 ~ 6 pouces = 50 pièces/8 pouces = 25 pièces
4 ~ 6 pouces = 50 pièces/8 pouces = 25 pièces
Dimensions d'apparence
1250x1630x1900mm
1250x1630x1900mm
Controle du système
PC
PC
Niveau d'automatisation
Voiture
Voiture
Capacité matérielle
Temps de disponibilité/temps disponible
≧ 95%
Temps moyen de nettoyage (MTTC)
≦6 heures
Temps moyen de réparation (MTTR)
≦4 heures
Temps moyen entre les pannes (MTBF)
≧350 heures
Temps moyen entre assistant (MTBA)
≧24 heures
Plaquette moyenne entre cassée (MWBB)
≦1 sur 10,000 XNUMX plaquettes
Contrôle de la plaque chauffante
50-250 °
Rapport d'essai
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À propos de nous
Nous avons 16 ans d'expérience dans la vente d'équipements. Nous pouvons vous fournir une solution unique d'équipements de ligne de paquets front-end et back-end pour semi-conducteurs en provenance de Chine !
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Objet de la demande

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