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Industrie des semi-conducteurs Machine de suppression PR par plasma par lot Hors ligne Suppression des résidus de photo-résist

Description du produit

Type cassette Lot plasma Désencollage de photo-résine

DESCUM
Nettoyage du gaufrier
Retrait de résidus de Résist après processus humide
Élimination des résidus de surface
Retirer les résidus de Résist après exposition et développement
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal details
Process
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Avantage :

Avantages essentiels

Taux élevé de désencollage : Plasma haute densité, taux rapide de désencollage
Stabilité : Après traitement par plasma, forte reproductibilité
Plasma distant : plasma distant, faible dommage ionique pour la wafer
Logiciel en vedette : développement indépendant de logiciels, animation de processus intuitive, données et enregistrements détaillés
Uniformité : le plasma peut contrôler la pression et la température via une vanne papillon
Facteur de sécurité : un plasma faible réduit les dommages à la décharge du produit.
Service après-vente : réponse rapide et inventaire suffisant
Contrôle de la poussière : répond aux exigences des clients.
Technologie de base : avec près de 40 % des membres de l'équipe R&D

Plateforme Cassette (MD-ST 6100/620)

1. 4 Supports de wafer
2. Haute compatibilité : la flexibilité du choix de la taille de wafer apporte une efficacité coûteuse et des solutions
3. Chambre de transfert sous vide à haute stabilité :
Le design de transmission sous vide mature et stable est appliqué sur le marché depuis de nombreuses années et est bien reconnu par les clients.
Conception en tourne-disque, espace compact, réduisant considérablement le risque de PARTICULES
4. Interface d'opération logicielle ergonomique :
Interface logicielle intuitive et ergonomique, suivi en temps réel de l'état de fonctionnement de la machine ;
Fonctions d'alarme et de sécurité complètes pour éviter les mauvaises manipulations.
Fonction de exportation de données puissante, enregistrement de divers paramètres de processus, et exportation des relevés de production des produits.
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Robot

1. Le design de prélèvement et de placement simultané de deux galettes apporte une productivité élevée
2. Optimise l'efficacité de l'espace.
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Plaque de chauffage

1. Plaque à galettes avec un contrôle thermique précis
Plaque de chauffage des galettes de silicium de la température ambiante à 250 °C, précision du contrôle de la température ±1°C
La plaque de chauffage des galettes a été calibrée avec des instruments professionnels, et l'uniformité est de ±3°C, garantissant l'uniformité du retrait de la colle
2. Traitement de galettes simples en chambre unique
Conception de traitement de deux galettes en une seule chambre;
Conception de décharge électrique indépendante pour chaque galette, garantissant un effet de retrait PR circulaire pour chaque galette;
En assurant l'efficacité UPH, réduire le coût du produit. Grande compatibilité
3. Capacité de production : conception d'une chambre de réaction double pièce, haute efficacité de production.
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Spécification
Source plasma
rF
Micro-ondes
Puissance
1000W
1250w
Domaine d'application
4~8寸
4~8寸
Nombre de tranches traitées individuellement
4-6 pouces = 50 pièces/8 pouces = 25 pièces
4-6 pouces = 50 pièces/8 pouces = 25 pièces
Dimensions extérieures
1000x850x1700mm
1000x850x1700mm
Contrôle du système
PC
PC
Niveau d'automatisation
Manuel
Manuel
Capacité matérielle
Temps de fonctionnement/Temps disponible
≧95%
Temps moyen pour nettoyer (MTTC)
≦6 heures
Temps moyen de réparation (MTTR)
≦4 heures
Temps moyen entre deux pannes (MTBF)
≧350 heures
Temps moyen entre assistance (MTBA)
≧24 heures
Moyenne des galettes avant casse (MWBB)
≦1 sur 10 000 galettes
Contrôle de la plaque chauffante
50-250°
Rapport d'essai
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Vue de l'usine
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Emballage et livraison
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Profil de l'entreprise
Nous avons 16 ans d'expérience dans la vente d'équipements. Nous pouvons vous fournir une solution globale pour les équipements de ligne d'emballage de semi-conducteurs, secteur avant et arrière, en provenance de Chine !
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