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  • Machine de retrait du photo-résist sur galette semi-conductrice par plasma PR Retrait Sérieux
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Machine de retrait du photo-résist sur galette semi-conductrice par plasma PR Retrait Sérieux

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Description du produit

PLASMA EN MODE BATCH Machine de retrait de photo-résist sur galette semi-conductrice

La température de traitement est basse et peut maintenir le plasma à haute pression
Nettoyage DESCUM des galettes Retrait humide du photo-résist Retrait des résidus de surface Suppression des résidus de photo-résist après exposition et développement
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Spécification
Source plasma
RF
micro-ondes
Puissance
1000W
1250w
Domaine d'application
4~8 pouces
4~8寸
Nombre de tranches traitées individuellement
4~6 pouces = 50 pièces / 8 pouces = 25 pièces
4~6 pouces = 50 pièces / 8 pouces = 25 pièces
Dimensions extérieures
1250x1630x1900mm
1250x1630x1900mm
Contrôle du système
PC
PC
Niveau d'automatisation
AUTO
AUTO
Usine
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DÉTAILS DU PRODUIT
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Emballage et livraison
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Profil de l'entreprise
16 ans d'expérience dans l'exportation d'équipements ! Nous pouvons vous fournir une solution complète pour les processus et équipements de semi-conducteurs Front / Back End !
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