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Description des produits

Solution d'emballage pour semi-conducteurs Nettoyant plasma pour micro-ondes

Le SPV-100MWR est un système de nettoyage au plasma micro-ondes basse tension pour semi-conducteurs. En appliquant des micro-ondes d'une fréquence de 2.45 GHz sur la fenêtre située sur la paroi de la cavité sous vide, un grand nombre de plasma continu est généré et la puce est nettoyée en entrant dans la cavité.
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paramètres techniques
Hôte plasma sous vide
Taille de l'équipement
1230X1800X1100mm (largeur x hauteur x profondeur)
Poids
450kg
Demande de puissance
AC380V, 50/60Hz, 5 fils, 30A
Spécifications du générateur de plasma
Alimentation micro-ondes
Puissance
0 ~ 1250W
La fréquence
2.45GHz
Système de vide
Matières
Alliage d'aluminium (chambre en acier inoxydable personnalisable)
Épaisseur
25mm
Dimensions intérieures de la cavité
480mmX470mmX480mm
Espaces de travail
6 rubriques de magazines
ECR
Slotted Magazine offre un effet de traitement amélioré ECR
Capacité plasma
Capacité de traitement
Pas 35um
Bosse de 40 μm
Taille maximale de la matrice : 15 x 15 mm.
Applications
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Détails
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