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Description des produits

Solution d'emballage de semi-conducteurs Nettoyeur au plasma micro-ondes

Le SPV-100MWR est un système de nettoyage au plasma micro-ondes à faible tension pour les semi-conducteurs. En appliquant des micro-ondes avec une fréquence de 2,45 GHz à la fenêtre sur le mur de la cavité sous vide, une grande quantité de plasma continu est générée, et le composant électronique est nettoyé en entrant dans la cavité.
Vacuum microwave plasma cleaning machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging solution IC TO package supplier
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Paramètres techniques
Hôte de plasma sous vide
Taille de l'équipement
1230X1800X1100mm (largeur x hauteur x profondeur)
Poids
450Kg
Demande d'énergie
AC380V, 50/60Hz, 5 fils, 30A
Spécifications du générateur de plasma
Alimentation en puissance micro-ondes
Puissance
0~1250W
Fréquence
2,45GHz
Système de vide
Matériau
Alliage d'aluminium (chambre en acier inoxydable personnalisable)
Épaisseur
25mm
Dimensions intérieures de la cavité
480mmX470mmX480mm
Espaces de travail
6 sections de magazine
ECR
Le magazine à fentes offre un effet de traitement amélioré pour l'ECR
Capacité plasma
Capacité de traitement
pas de 35 µm
bump de 40 μm
taille maximale du dé diode : 15x15 mm
APPLICATIONS
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Détail
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Usine
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Nous avons 16 ans d'expérience dans la vente d'équipements et pouvons vous fournir une solution complète pour une ligne d'emballage IC !
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