ICP tirim Inneall a Bhaint as Photoresist / Plasma Meaisín a bhaint Photoresist (PR) le haghaidh wafer leathsheoltóra, an tSín ICP tirim Inneall a bhaint as Photoresist / Plasma Photoresist a bhaint (PR) meaisín do leathsheoltóra wafer Déantóirí, Soláthraithe, Monarcha

Cur síos ar an Táirge

ICP PLASMA Bain Meaisín Photoresist

ASHING
A bhaint polaiméir
A bhaint tirim ciseal masc crua
bhaint Photoresistance tar éis ionchlannú ian
Baint fóta-fhriotaíochta sa phróiseas BAW/SAW
Ciseal scannán grafach frith-fhrithchaiteach a ghlanadh go tirim
Baint iarmhair dromchla
Glanadh dromchla tar éis eitseáil
DESCUM

Tá meaisín bhaint photoresist plasma tirim ICP oiriúnach le haghaidh DESCUM (réamhchóireáil, iarmhar photoresist a bhaint) Baint polaiméire (PI, BCB, PBO) Tar éis ionchlannú ian, baint photoresist, etc., tá an cuas oiriúnach le haghaidh samplaí 8-orlach (4 -6 orlach comhoiriúnach)

Inneall Bainte Plasma ICP tirim le meaisín bainte Photoresist / Plasma Photoresist (PR) le haghaidh sonraí sliseog leathsheoltóra

Plasma tirim ICP Meaisín a bhaint Photoresist / Plasma Photoresist (PR) do sholáthraí wafer leathsheoltóra

Inneall Bainte Plasma ICP tirim le meaisín bainte Photoresist / Plasma Photoresist (PR) do mhonarú wafer leathsheoltóra

ICP Plasma tirim a Bhaint as Meaisín Baint Photoresist / Plasma Photoresist (PR) do mhonarcha wafer leathsheoltóra

Sonraíocht

PLASMA			RF	RF
Cumhacht	ICP	1000w	1000w
Cumhacht		Laofacht	600w (rogha)	600w (rogha)
Raon feidhme infheidhme			4 ~ 8 orlach	4 ~ 8 orlach
Comhaireamh slice próiseála aonair			1	2
Toisí láithrithe			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Rialú córais			Córas rialaithe tionscail	Córas rialaithe tionscail
Leibhéal uathoibrithe			uathoibríoch	uathoibríoch