$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$
$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$
$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$
$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$
$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$
$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$

$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$
$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$
$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$
$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$
$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$
$ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne$

ICP dry Plasma Bainisteachta Leathghlas \/ Bainisteachta Leathghlas Phléasma (PR) don siamsaíocht fáinne

Cur síos ar an gcrann

ICP PLASMA Bain Photoresist Machine

glanadh
Bain Polyméar
Bain ceannaithe gan uisce de chloch fheabhsaithe
Bain phhotoresist i ndiaidh tabhairneáil íon
Bainistiú phictiúir i dteideal BAW/SAW
Glúineadh tharla de chloch gréasánacht fhréamh
Bainistiú le haithne ar fharraige
Glancháil an phléidíochta i ndiaidh caitheamh
DESCUM

Árthach bhranaí plasma dochtúil ICP áitiu le haghaidh DESCUM (roinnt-tractáil, bainistiú naomhrialtóg pictiúir) Bainistiú Polaiméar (PI, BCB, PBO) Tar éis ioncríochnaíocht, bainistiú phictiúir, etc., tá an spás áitiu don chomhlacht 8-ích (cóiriúchán 4-6 í inch)

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer manufacture

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer factory

Speisifeicáid

Plasma			RF	RF
Cumhacht	ICP	1000W	1000W
Cumhacht		BIAS	600w(option)	600w(option)
Scop Céanna			4~8 inch	4~8 inch
Nóiméad faictheach singil			1	2
Méadúchán fíor-shnámh			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Rialtaí Sistém			Córas Rialaithe Stairiúil	Córas Rialaithe Stairiúil
Leibhéal Uathoibrithe			Uathoibríoch	Uathoibríoch