Igazító/Igazító gép foto-litográfia , China Igazító/Igazító gép foto-litográfia Manufacturers, Suppliers, Factory

Termékek leírása

Mask Aligner Lithography Machine

A Mask Aligner főként használják a kis és közepes méretű integrált áramkörök, halványtérképes komponensek, optoelektronikai eszközök, felületi hanghullám-eszközök, vékonyfilmes áramkörök és erőelektronikai eszközök fejlesztésére és gyártására
Maszk igazító Más néven: maszk igazító expozíciós gép, expozíciós rendszer, lithográfiai rendszer stb., ez a magyarítószivacsok gyártásának alapfőzetes eszköze. Használja a fényképezéshez hasonló technológiát, hogy a maszkon lévő finom mintákat fényexpozícióval a szilikongyűrőre nyomja.
Főleg az alábbiakból áll: magas pontosságú igazító munkamenet, két szemű elválasztott mezőjű függőleges mikroszkóp, két szemű elválasztott mezőjű vízszintes mikroszkóp, digitális kamera, számítógépes képfeldolgozási emlékezeti rendszer, többpontos fényforrás (fly eye) expozíciós fej, PLC vezérlőrendszer, légcsatornarendszer, vakuumrendszer, közvetlenül csatlakoztatott vakuumpumpa, másodlagos rezgéstelenítő munkamenet és tartozékokat tartalmazó doboz.

Aligner /Alignment Machine photolithography manufacture

Aligner /Alignment Machine photolithography factory

A tulajdonságok

1. Magas egyenleteségű fly-eye expozíciós fej / légizéses szintező mechanizmus / megbízható vakuumráncolású expozíció. magas felbontású.
2. Maszk igazítási módszer stabil és substrátummal történő táplálkozás, amely biztosítja az irányítási gravitáció és a erő konzisztenciáját.
3. Résszel nem szakított egyenes irányítás használata, magas pontosság, gyors sebesség.
4. Minden modell alkalmas minden standard fotorezisztussal való munkára, például AZ, Shipley, SU 8.
5. Minden modell Az rendszer által a substrátusra átvitt mintázat minősége 5 maszk alkalmazás esetén ugyanaz kell hogy legyen, mint az első maszk alkalmazása után.
6. Visszafojtási idő egy szekundum és egy óra között igazítható. Igazítási pontosság 1 µm

Aligner /Alignment Machine photolithography supplier

Aligner /Alignment Machine photolithography details

Specifikáció

Modell	MD-G25A	MD-G25D	MD-G31		MD-G33
Fényesés típusa	Egy oldalas			Kétoldalas igazítás és kétoldalas fényesés
Fényképzési mód	Kapcsolat hard, soft és nem kapcsolatos közelségi érzékelés
Fényesítő fej mennyisége	1 Fényesítő fej			2 Fényesítő fej
Fényforrás típusa	GCQ350 gömbölyű mercuriumlámpa						LED UV fényesítő fej
Hűtési módszer	Légi hűtés
Fényesítési terület	Φ100mm	110×110mm	Φ100mm		150mm×150mm
Fényképzési mód	Kompatibilis a kemény, puha kontaktokkal
Fényelosztás egyenlőtlensége	Φ100mm<±3%<>	≤±3%
Fényelosztási felbontás	2μm	1 μm
Sugárzati intenzitás (365 nm)	≥6mw/cm²	≤40mw/cm2	≥5mw/cm2		0～30mw/cm2
Sugárzás inhomogénéitása	≤±4%	≤±3%
UV fény maximális elhelyezkedési szög	4°	3°
Világítási tartomány	≤Φ117mm	Φ117mm	≤Φ117mm		Elő és háta ≥ Φ115mm
Kövér hiba kompenzációs mód	Gömb alapú automatikus kompenzálás			Automatikus kizárás		3 pontos automatikus kiegészítés
Az X és Y tengelyek útja	±4mm	±5mm	±4mm		±5 mm
A θ útja	±3°	≤5°	≤±5º		≤0.5°
XYZ alapanyag elmozdulási felbontás	0.5µm	0.3µm	0.3µm		0.01µm
Mikroszkóp rendszer	Két egyetemes mikroszkóp / Két CCD kamera
Kijelző mérete	15 inches
Képszerezési rendszer felbontása	2µm	1.5µm	1.5µm		1.5µm
Maszka és az alapanyag mérési távolsága	0.5 µm	0.3 µm
A CCD célpont felületének átlós mérete	1/3, (6mm)						40mm～110mm
Beállítási asztal mérete	≤ Négyzetes 5*5 inch (Testreszabható specifikációk)
Részek mérete	Φ 100mm vagy 100*100mm négyzet	60*49.5mm négyzet	2”-4”		1"x1"-5"x5"
Hordozó vastagsága	1-3 mm	≤5 mm	1-3 mm		≤5 mm
vákuum szivattyú	Olajmentes csend (-0,07～-0,08 MPa)
Tisztított tömör lég	≥0,4 MPa
Energiaellátás	AC 220V±10% 50HZ 1,5KW
Tisztasági osztály	Osztály 100
Tisztasági szoba hőmérséklet	25℃±2℃
Tiszta szoba relativeszappanossága	≤60%
Tiszta szoba rezgési amplitúdója	≤4μm
Eszköz mérete	1300 ×720×1600mm				1500 ×800×1600mm
Berendezés súlya	200 kg				280 kg

A pontos igazítási rendszer gyártásához szükséges majdnem tökéletes pontosságú mechanikai feldolgozás. Az igazítási rendszer egy másik technikai problémája az igazítási mikroszkóp. A mikroszkóp látóterjének növelése érdekében sok magasrendű lithográfiai gép LED-fényforrást használ. Két igazítási rendszer van fókuszálási funkcióval. Főként két látóteret és két igazítást alkot a mikroszkóp testére nézve, egy pár ocsmányt és egy pár objektív-lencset (a lithográfiai gép általában különböző nagyítású ocsmányt és objektív-lencset biztosít a felhasználóknak). A CCD igazítási rendszer feladata az igazítási jelölők nagyítása a maszkra és a mintára, valamint a képek megjelenítése a monitoron.

A munkafeldolgozó szakasz kulcsfontosságú része a litográfiai gépnak, amelyet maszk-minta teljes mozgási szakasz (XY), maszk-minta relatives mozgási szakasz (XY), forgatós szakasz, minta szintező mechanizmus, minta fókuszáló mechanizmus, vászon szakasz, maszk rögzítő és kihúzható maszk szakasz alkot. A szintező mechanizmus egy gömbhelyettes és félgömböt tartalmaz. A szintezés folyamatában először nyomású levegőt alkalmaznak a gömbhelyettesre és a félgömbre, majd a gömbhelyettes, a félgömb és a minta felmérgezően emelkednek a fókuszáló kerék által, hogy a mintát a maszknak megfelelően szintessék, és utána a háromútú elektromos szervókapcsoló váltja át a gömbhelyettes és a félgömböt vakuumra zároláshoz, hogy fenntartsa a szintezett állapotot.

Minder-Hightech ajánl neked fejlett technológiát a fotolithográfia területén az Aligner/Alignment Machine segítségével.

Küzdösz-e túl kicsi pontossággal a környezetben, amikor körököt nyomtatasz elektronikus termékeidre? A Minder-Hightech Aligner/Alignment Machine használatával biztos lehet benne, hogy magas szintű pontosságot ér el a nyomtatott körök gyártásakor.

Ezzel a forradalmi eszközzel könnyedén átvihetsz egy nagy felbontású képet egy termékre fénylithográfiával. Ez a gép pontosságot garanciaz az anyag és a kép igazításán alapuló működési rendszerrel.

A képek nyomtatása és feltöltése után a gép kiszámítja a szükséges expozíciós időt és hogyan igazítja az anyagot a képekhez. Ezt a számítást a legfrissebb számítógépes szoftver segítségével végezik el, amely frissíthető, hogy kövesse a gyártási ipar technológiai fejlődését.

Ez lehetővé teszi szerteágú alkalmazásokat, beleértve a mikroszkópokat, a rádiós (RF) köröket és az integrált köröket. A gép elérheti a legjobb etch mélységet, pálya szélességet és réteg-réteg igazítást különféle komplementáris eljárások hozzáadásával, mint például a kémiai etching és az elektrolytikus bevonat.

A termékünk előnye abban rejlik, hogy képes magas pontosságú igazítást biztosítani, ami biztosítja, hogy a minták nagy pontossággal helyezkedjenek el a anyagon. Kényelmesen nyomtathatsz sok bonyolult tervezetet anélkül, hogy lenne bármilyen deformáció.

Felhasználói barát, kompakt és hatékony, ami megfelelő vállalkozások különböző méretű gyártási berendezéseire. Emellett a készülékünk manuális karbantartással és helyszíni képzéssel rendelkezik a technikai támogatási csapatunkkal.

A Minder-Hightech Aligner/Alignment Machine fotolitográfiai technológiát használ, hogy segítsen a legjobb eredmények elérésében a környezetek nyomtatásakor. Élvezze az új szintű technológiát, amely magas pontosságot és precizitást kínál, amelyet a hagyományos nyomtatási módszerek nem tudnak egyezni. A Minder-Hightech Aligner/Alignment Machine az, amire a gyártó vállalatának szüksége van, hogy maradjon előrébb a versenytársai elé. Lépjen kapcsolatba velünk ma, hogy élvezze az üzleti előnyöket a piac legjobb Aligner/Alignment Machine technológiájából.

kezdőlap

Rólunk

MH Equipment

Megoldás

Külföldi Felhasználók

Videó

Lépjen kapcsolatba velünk

Igazító/Igazító gép foto-litográfia

További termékek

MD-FS sorozat kondenzátor szövetési gép

MD-FDS sorozat Automatikus kondenzátor szövetési gép

MD-EFS sorozat Kondenzátor Szövetési Gép

MD-EDFS sorozat film Kondenzátor Szövetési Gép

Vizsgálat

Articles

Products

Get In Touch