Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.
Idézz

Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

Főoldal
Rólunk
MH berendezések
Megoldás
Tengerentúli felhasználók
Videó
Kapcsolat
Főoldal> PR eltávolítása RTP USC
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép
  • Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép

Tisztítsa meg a félvezető lapátot maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép Magyarország

Kap egy ingyenes idézet
termékleírás

ICP kísérleti plazma fotoreziszt eltávolító gép

Polimer eltávolítás, szilícium-oxidos vagy szilícium-karbidos maratás, felülettisztítás maratás után
ASHING Polimer eltávolítása DESCUM Kemény maszkréteg száraz eltávolítása Fényrezisztencia eltávolítása ionimplantáció után Optikai ellenállás eltávolítása a közegek között Fényrezisztencia eltávolítása BAW/SAW eljárásban Reflexiós filmréteg vegytisztítása Szilícium-oxiddal vagy szilícium-nitriddel maratott felületi maradékok eltávolítása Felülettisztítás maratás után szilikon keményfém maratás
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép szállítója
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gépgyár
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép részletei
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gépgyártás
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gépgyár
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gépgyár
Leírás
PLAZMA forrás
RF+BIAS
Power
1000W
1000W
600W
600W
Alkalmazható hatókör
4-8 hüvelyk
Egyetlen feldolgozott szeletek száma
egy
Megjelenési méretek
1140mm x 1050mm x 1620mm
Rendszervezérlés
Ipari irányító rendszer
Automatizálási szint
Kézikönyv
Gyár
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép szállítója
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gépgyártás
Csomagolás és szállítás
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép szállítója
Company Profile
16 éves tapasztalat a berendezésexportban! Egyablakos félvezető előlapi folyamatok és berendezések megoldást tudunk biztosítani Önnek!
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép szállítója
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép részletei
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép részletei
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gép szállítója
Tiszta félvezető lapka maratás után ICP kísérleti plazmaeltávolító fotoreziszt gépgyár

További termékek

Vizsgálat

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Minden jog fenntartva

Adatkezelési tájékoztató

Vizsgálat E-mail WhatsApp WeChat
felső
×

Vegye fel velünk a kapcsolatot!