CVD berendezések grafén és szén nanocső anyagokhoz / félvezető berendezésekhez , Kína CVD berendezések grafén és szén nanocső anyagokhoz / félvezető berendezésekhez Gyártók, beszállítók, gyár

termékleírás

CVD berendezés grafén és szén nanocső anyagokhoz

A berendezést elsősorban grafén és nanoanyagok technológiai bevonására használják; Polikristályos szilícium és szilícium-karbid diffúziója, oxidációja és lágyítása.

CVD berendezések grafén és szén nanocső anyagokhoz / félvezető berendezésekhez

CVD berendezések grafén és szén nanocső anyagokhoz / Félvezető berendezések gyára

Leírás

szerkezeti stílus	Vízszintes, egycsöves vagy többcsöves rendszer automatikus vezérlése
Alkalmazkodjon az ostya méretéhez	2-8 ″
Ostya szállítási és visszavételi módja	Automata konzolos kvarc push-pull csónak, kézi forgácslevétellel és -kioldással kombinálva.
maximális hőmérséklet	1050 ℃
üzemhőmérséklet	400 ℃ ~ 850 ℃ fokozatmentesen állítható
Egypontos hőmérsékleti stabilitás	400℃~850℃≤±0.5℃/24 óra
Rendszerkorlát vákuum	Jobb mint 1Pa
szivattyúzási sebesség	Szivattyúzási idő a vákuum korlátozásához ＜ 15 perc
Üzemi nyomástartomány	5 Pa és 1 × 105 Pa között folyamatosan állítható
Tápegység	3 fázisú 5 vezetékes 380V±10%，50Hz
hűtővíz	2-4 kg/cm², 8 liter/perc;

Csomagolás és szállítás

Company Profile

16 éves tapasztalattal rendelkezünk berendezések értékesítésében. Kínából professzionális megoldást kínálunk Önnek egyablakos félvezető előlapi és hátoldali csomagsoros berendezésekhez.