CVD berendezés gráfén és szén-nanocsővér anyagokhoz / Halványvezeték berendezés , China CVD berendezés gráfén és szén-nanocsővér anyagokhoz / Halványvezeték berendezés Manufacturers, Suppliers, Factory

Termékleírás

CVD berendezés grafének és szénnanócső anyagokhoz

A berendezés főleg a grafén és nanóanyagok felületi fedési folyamatára használható; Polikristatú szilícium és szilikonnitrid diffúziója, oxidálása és anneáloza.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Specifikáció

konstrukciós stílus	Vízszintes, egytömbös vagy többtömbös rendszer automatikus ellenőrzéssel
Megfelel a vashapros méretnek	2-8″
Vashapros kézbesítési és visszavételezési módszer	Automatikus kantiliveres kvártz nyomás-becsukó hajó, kombinálva kézzel történő csipetvétellel és -felszabadítással.
Maximális hőmérséklet	1050℃
Működési hőmérséklet	400 ℃~850 ℃ folyamatosan állítható
Egypontos hőmérsékleti stabilitás	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Rendszer korlátozott vakuum	jobb mint 1Pa
szivattyú sebesség	Szivattyú idő korlátozott vakuumhoz ＜ 15Percc
munkanyomás tartomány	5Pa to 1 × 105Pa folyamatosan állítható
Energiaellátás	3 fázis 5-szalag 380V±10%, 50Hz
Hűtővíz	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Csomagolás & Szállítás

Vállalati profil

Tizenhat éves tapasztalatunk van az eszközök értékesítésében. Önnek Kínából egyállományos, professionális megoldást tudunk nyújtani a haladó és hátsó szemiconductortöltési sorozatokhoz.