ICP szárított Plasma Fotoreziszt eltávolítás / Plasma Fotoreziszt eltávolítás (PR) gép halványosítható szemléltető táblára , China ICP szárított Plasma Fotoreziszt eltávolítás / Plasma Fotoreziszt eltávolítás (PR) gép halványosítható szemléltető táblára Manufacturers, Suppliers, Factory

Termékleírás

ICP PLASMA Távolítsa el a fényérzékeny anyagot Gép

mosás
Polimer eltávolítása
Szárított távolítás kemény maszk rétegből
Ionbevitel utáni fotoellenállás távolítása
Fényérzékenység eltávolítása BAW/SAW folyamatban
Szárító tisztítás vonzágyűrő grafikai filmetréssel
Felszíni maradványok eltávolítása
Felület takarítása az etching után
DESCUM

ICP száraz plazma fényérzékenység eltávolító gép alkalmas DESCUM-ra (előkészítés, fényérzékenység maradványainak eltávolítása) Polimer eltávolítás (PI, BCB, PBO) Iontavasztozás után, fényérzékenység eltávolítása stb., a kammerton 8-as élesztékes mintákra alkalmas (4-6 éleszték kompatibilis)

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer manufacture

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer factory

Specifikáció

Plazma			rF	rF
Teljesítmény	ICP	1000W	1000W
Teljesítmény		BIAS	600w(option)	600w(option)
Alkalmazási kör			4~8 inch	4~8 inch
Egyetlen feldolgozási szelet száma			1	2
Kijelentkezési méretek			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Rendszervezérlés			Ipari vezérlőrendszer	Ipari vezérlőrendszer
Automatizációs szint			Automatikus	Automatikus