Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

Főoldal
Rólunk
MH berendezések
Megoldás
Tengerentúli felhasználók
Videó
Kapcsolat
termék induktív csatolás plazma marató rendszer icp félvezető berendezés-42
Főoldal> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés
  • Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés

Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezés Magyarország

termékleírás
Induktív csatolású plazmamaratási (icp) rendszer
Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) A félvezető berendezés részletei
Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) félvezető berendezések szállítója
Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezések gyára
Folyamat eredménye

Kvarc / szilícium / rács maratás

A BR maszk használatával kvarc vagy szilícium anyagok maratására a rácssor mintázata a legvékonyabb vonallal rendelkezik 300 nm-ig, és a minta oldalfalának meredeksége megközelíti a 89°-ot, ami alkalmazható 3D kijelzőre, mikrooptikai eszközökre, optoelektronikai kommunikációra, stb
Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezések gyára

Összetett / félvezető maratás

A minta felületi hőmérsékletének pontos szabályozásával jól szabályozható a GaN alapú, GaAs, InP és fém anyagok maratási morfológiája. Alkalmas kék LED-es eszközökhöz, lézerekhez, optikai kommunikációhoz és egyéb alkalmazásokhoz.
Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezések gyártása

Szilikon alapú anyagmarás

alkalmas szilícium alapú anyagok, például Si, SiO2 és SiNx maratására. 50 nm feletti szilícium vonalmaratást és 100 um alatti mély lyukmaratást tud megvalósítani
Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) Félvezető berendezések gyára
Leírás
Projektkonfiguráció és gépszerkezeti diagram
Tétel
MD150S-ICP
MD200S-ICP
MD150CS-ICP
MD200CS-ICP
MD300C-ICP
Termék mérete
≤ 6 hüvelyk
≤ 8 hüvelyk
≤ 6 hüvelyk
≤ 8 hüvelyk
Egyedi≥12 hüvelyk
SRF áramforrás
0~1000W/2000W/3000W/5000WAdjustable,automatic matching\,13.56MHz/27MHz
BRF áramforrás
0~300W/0~500W/0~1000WAdjustable, automatic matching,2MHz/13.56MHz
Molekuláris szivattyú
Nem korrozív: 600 /1300 (L/s)/Egyedi
Korrózióvédelem: 600 /1300 (L./s)/Egyedi
600/1300 (L/s) /Egyedi
Foreline pumpa
Mechanikus szivattyú / száraz szivattyú
Korróziógátló száraz szivattyú
Mechanikus szivattyú / száraz szivattyú
Előszivattyúzás szivattyú
Mechanikus szivattyú / száraz szivattyú
Mechanikus szivattyú / száraz szivattyú
A folyamat nyomása
Szabályozatlan nyomás/0-0.1/1/10Torr szabályozott nyomás
Gáz típus
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/
CHF3/C4F8/NF3/NH3/C2F6/Custom
(Akár 12 csatorna, nem korrozív és mérgező gáz)
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/CHF3/ C4F8/NF3/NH3/C2F6/Cl2/BCl3/HBr/
Egyéni (akár 12 csatorna)
Gáztűzhely
0~5sccm/50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/500sccm/1000sccm/Custom
LoadLock
Igen nem
Igen
Minta tem ellenőrzés
10°C ~ Szoba/ -30°C ~ 150°C /Egyedi
-30°C ~ 200°C/Egyedi
Hátsó hélium hűtés
Igen nem
Igen
A folyamat üreg bélése
Igen nem
Igen
Üreges fal hőmérséklet szabályozása
Nem/Szobahőmérséklet -60/120°C
Szobahőmérséklet ~60/120°C
Ellenőrzési rendszer
Automatikus/egyéni
Rézkarc anyag
Szilícium bázis: Si/SiO2/
SiNx/SiC.....
Szerves anyagok: PR/Organic
film......
Szilícium-bázis: Si/SiO2/SiNx/SiC
III-V: InP/GaAs/GaN......
IV-IV: SiC
II-VI: CdTe......
Mágneses anyag/ötvözet anyag
Fém anyagok: Ni/Cr/Al/Cu/Au...
Szerves anyagok: PR/Organic film......
Szilikon mélymarás
Csomagolás és szállítás
Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) félvezető berendezések szállítója
Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) A félvezető berendezés részletei
Company Profile
16 éves tapasztalattal rendelkezünk berendezések értékesítésében. Kínából professzionális megoldást kínálunk Önnek egyablakos félvezető előlapi és hátoldali csomagsoros berendezésekhez.
Induktív csatolású plazmamaratási rendszer (ICP) félvezető berendezések szállítója

Vizsgálat

termék induktív csatolás plazma marató rendszer icp félvezető berendezés-69Vizsgálat termék induktív csatolás plazma marató rendszer icp félvezető berendezés-70E-mail termék induktív csatolás plazma marató rendszer icp félvezető berendezés-71WhatsApp termék induktív csatolás plazma marató rendszer icp félvezető berendezés-72 WeChat
termék induktív csatolás plazma marató rendszer icp félvezető berendezés-73
termék induktív csatolás plazma marató rendszer icp félvezető berendezés-74felső
×

Vegye fel velünk a kapcsolatot!