Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
HU
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Ajánlat kérése

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

kezdőlap
Rólunk
MH Equipment
Megoldás
Külföldi Felhasználók
Videó
Lépjen kapcsolatba velünk
Főoldal> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz
  • Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz

Indukciós Kapcsolódó Plazma Etching Rendszer ( ICP ) Szemiconduktor eszköz

Ingyenes ajánlat kérése
Termékleírás
Indukciós kapcsolódású plazma etching (icp) rendszer
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory
Folyamat eredménye

Kvarc / silícium / rács etching

BR maszk használatával a kvarc vagy silícium anyagokat etchantjuk, a rács tömb mintája legalább 300nm vastagságú vonalra és a minta oldalfalának meredeksége >89°-hez közelít, amely alkalmazható 3D megjelenítésre, mikroszkopikus optikai eszközökön, optoelektronikai kommunikációra stb.
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory

Összetett / félélelmű etching

A minta felszín-hőmérsékletének pontos ellenőrzése jól vezérelheti a GaN alapú, GaAs, InP és fémmaterialisztikus etching morfológiáját. Alkalmazható kék LED-eszközök, lázerművek, optikai kommunikáció és más alkalmazásokhoz.
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment manufacture

Szilícium-alapú anyagok etching-je

alkalmas silícium-alapú anyagok, például Si, SiO2 és SiNx etchingjére. Megvalósítható 50nm-nál nagyobb silíciumvonal-etching és 100um-nál kisebb silícium mély lyukas etching.
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory
Specifikáció
Projekt konfigurációja és gép szerkezetének diagramja
Tétel
MD150S-ICP
MD200S-ICP
MD150CS-ICP
MD200CS-ICP
MD300C-ICP
Termék mérete
≤6 hüvelyk
≤8 hüvelyk
≤6 hüvelyk
≤8 hüvelyk
Egyéni≥12inches
SRF Áramforrás
0~1000W/2000W/3000W/5000WÁllítható, automatikus párosítás\,13.56MHz/27MHz
BRF Áramforrás
0~300W/0~500W/0~1000WÁllítható, automatikus párosítás,2MHz/13.56MHz
Molekuláris pumpa
Nem rosszulasztó : 600 /1300 (L/s) /Egyéni
Rohamos:600 /1300 (L./s)/Egyéni
600/1300(L/s) /Egyéni
Foreline pumpa
Gépi pumpa / száraz pumpa
Ellenálló száraz pumpa
Gépi pumpa / száraz pumpa
Előpumpás pumpa
Gépi pumpa / száraz pumpa
Gépi pumpa / száraz pumpa
Folyamatnyomás
Nem szabályozott nyomás/0-0.1/1/10Torr szabályozott nyomás
Gáz típusa
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/
CHF3/C4F8/NF3/NH3/C2F6/Egyéni
(Legfeljebb 12 csatorna, nem rostalányos és nem mérgező gáz)
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/CHF3/ C4F8/NF3/NH3/C2F6/Cl2/BCl3/HBr/
Egyéni (legfeljebb 12 csatorna)
gáztartomány
0~5sccm/50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/500sccm/1000sccm/Egyéni
Betöltési zár
Igen/Nem
Igen
Minta hőszabályzás
10°C~Szobahőmérséklet/-30°C~150°C/Egyéni
-30°C~200°C/Egyéni
Hátsó heliumhűtés
Igen/Nem
Igen
Feldolgozási kavarvonalak
Igen/Nem
Igen
Kavarfal hőszabályzás
Nem/Szobahőmérséklet-60/120°C
Szobahőmérséklet~60/120°C
Vezérlőrendszer
Automatikus/egyéni
Etching anyag
Silícium-alapú: Si/SiO2/
SiNx/SiC.....
Szerves anyagok: PR/Szerves
szárnyalat......
Silícium-alapú: Si/SiO2/SiNx/SiC
III-V: InP/GaAs/GaN......
IV-IV: SiC
II-VI: CdTe......
Mágneses anyag/alloy anyag
Fémanyagok: Ni/Cr/Al/Cu/Au...
Szerves anyagok: PR/Szerves foil......
Síkfúrás mély etching
Csomagolás & Szállítás
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details
Vállalati profil
Tizenhat éves tapasztalatunk van az eszközök értékesítésében. Önnek Kínából egyállományos, professionális megoldást tudunk nyújtani a haladó és hátsó szemiconductortöltési sorozatokhoz.
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier

További termékek

Vizsgálat

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved

Adatvédelmi szabályzat

Vizsgálat Email WhatsApp Top
×

Vegye fel a kapcsolatot