MCXJ-MLS8 maszk nélküli litográfiai rendszer, Kína MCXJ-MLS8 maszk nélküli litográfiai rendszer Gyártók, beszállítók, gyár

termékleírás

Minta:

MCXJ-MLS8 Maszk nélküli litográfia Rendszergyártás

Berendezés szerkezeti diagram

MCXJ-MLS8 Maszk nélküli litográfiai rendszer szállítója

Leírás

Az expozíciós gazdagép szerkezeti diagramja

struktúra	ábrázol
A munkalap feltárása	Expozíciós terület: munkalap, hordozó elhelyezési terület
Optikai rendszer	Lézer emissziós formázási terület
Környezetvédelmi ellenőrző rendszer	Szabályozza a készülék belső hőmérsékletét és pozitív nyomását
Platform rendszer	Vezérli az expozíciós táblázat mozgását a megvilágítási útvonal műveletének befejezéséhez
Ellenőrzési rendszer	A teljes berendezés vezérlőrendszere

Megjegyzés: Mivel a gép frissítése megváltoztathatja a tényleges megjelenést, az adott termék tárgyát.

Nem.	Környezet	Kötelező
1	Fényforrás környezet	Sárga fény
2	Hőmérséklet	22 ℃ ± 2 ℃
3	Nedvesség	50% ± 10%
4	Tisztaság	1000
5	CDA	0.6±0.1Mpa，200LPM, száraz, tiszta levegő
6	Tápegység	220~240V, 50/60Hz, 2.5KW；A földelő vezetéket földelni kell，
7	hűtővíz	Hőmérséklet: 10℃ ~ 20℃ Nyomás: 0.3 MPa ~ 0.5 MPa Áramlási sebesség: 20L/perc Nyomáskülönbség: 0.3 MPa以上 Átvételi kaliber: Rc3/8
8	helyszín	szint: ±3mm/3000mm rázás: VC-B csapágy:750kg/㎡
10	Internet	Egy hálózati port
11	A gép mérete	1300 * 1100 * 2100mm
12	Az eszköz súlya	1500kg

Nem.	NetPoulSafe projekt	Spec.	Megjegyzés
1	Felbontás	0.6 um/vagy egyéb követelmény	AZ703, AZ1350
2	CDU	±10%@1um
3	Az aljzat vastagsága	0.2 mm - 4 mm
4	Dátumrács pontossága	60nm
5	Borítás	± 500 nm	130mmx130mm
6	A varrás pontossága	± 200 nm	AZ703
7	MAX expozíciós méret	190X190mm
8	áteresztőképesség	≥300mm2/perc	≤50mj/cm2；
9	fényforrás	LD 375 nm
10	fényerő	6W
11	Energia egyenletessége	≥ 95%
12	könnyű élet	10000hr

Csomagolás és szállítás

Company Profile

16 éves tapasztalattal rendelkezünk berendezések értékesítésében. Kínából professzionális megoldást kínálunk Önnek egyablakos félvezető előlapi és hátoldali csomagsoros berendezésekhez.