Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

kezdőlap
Rólunk
MH Equipment
Megoldás
Külföldi Felhasználók
Videó
Lépjen kapcsolatba velünk
Főoldal> PR eltávolítás RTP USC
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása
  • Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása

Szemiconduktor ipar Kassetta alapú Csomag plasma PR eltávolítási gép Fényérzékeny Reziszt Maradványok Eltávolítása

Termékleírás

Kassetta típusú Batch plasma PR eltávolító gép

DESCUM
Wafer tisztítás
Maradék klézet eltávolítása a padlás folyamat után
Felszíni maradványok eltávolítása
Maradék klézet eltávolítása feltárás és fejlesztés után
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
A folyamat
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Előny:

Alapvető Előnnyel

Magas szivárványarány: Magas-sűrűségű plazma, gyors szivárványarány
Stabilitás: Plazma kezelés után magas reprodukálhatóság
Távoli plazma: Távoli plazma, alacsony ion-károsodás a vashoz
Kiemelt szoftver: önállóan fejlesztett szoftver, intuitív folyamatanimáció, részletes adatok és rekordok
Egyenletesség: A plazma nyomást és hőmérsékletet vámpír-zárójel segítségével ellenőrizheti
Biztonsági tényező: Alacsony plazma csökkenti a termék károsodását a kiürítés során.
Utánüzemeltetés: Gyors válaszidő és elég raktári készlet
Por-ellenes ellenőrzés: Megfelel a vevő követelményeinek.
Alaptechnológia: Több mint 40%-a az R&D csapat tagjainak

Cassette Platform (MD-ST 6100/620)

1. 4 Zsinór Tároló
2. Nagy kompatibilitás: a választott zsinórméret rugalmassága növeli a költség- és megoldásefektivitást
3. Magas stabilisítású vakuum átviteli kamra:
A kipróbált és stabil vakuumátviteli tervezés évek óta sikeresen alkalmazva a piacra, és jól elismert a vásárlók részéről.
Tornatervezet, kompakt tér, jelentősen csökkenti a PARTICAL kockázatot
4. Emberi szoftveres működési felület:
Intuitív emberi szoftveres működési felület, valós idejű figyelés a gép futási állapotáról;
Teljes körű riasztási és hibácsökkentési funkciók a helytelen műveletek elkerülése érdekében.
Hatékony adatexportálási funkció, különféle folyamatparaméterek rekordjai és termékgyártási rekordok exportálása.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Robot

1. Egy alkalomra kettős réteg vételi és elhelyezési tervezés, amely nagy termelékenységet hoz.
2. Térhasznosítás javítása.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

Melegítő lap

1. Magas pontosságú hőmérséklet-ellenőrzéses réteglap.
Rétegmelegítő lap szobahőmérséklettől 250°C-ig, hőmérséklet-ellenőrzési pontosság ±1°C.
A rétegmelegítő lapot szakmai eszközökkel kalibrálták, és a egyenletes. Belső ±3°C, illetve az eresztés egyenletes biztosítása.
2. Egykamrásvás általános kétszeres rétegfeldolgozás.
Egykamrásvás általános kétszeres rétegfelépítés;
Független tápegység-kibocsátási tervezés minden rétegre, hogy mindegyik réteg. Kerek PR-eresztési hatás;
Az UPH hatékonyság feltételeinek megfelelően csökkentjük a termék költségeit. Erős kompatibilitás.
3. Termelési kapacitás: két részből álló tervezésű reakciós kamra, magas termékenység.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Specifikáció
PLASMA forrás
rF
Mikrohullámú
Teljesítmény
1000W
1250w
Alkalmazási kör
4~8 inch
4~8 cun
Egyetlen feldolgozási szelet száma
4~6 inch=50 db /8 inch=25 db
4~6 inch=50 db/8 inch=25 db
Kijelentkezési méretek
1250x1630x1900mm
1250x1630x1900mm
Rendszervezérlés
PC
PC
Automatizációs szint
AUTO
AUTO
Hardveres képesség
Felügyeleti idő/Elérhető idő
≧95%
Átlagos tisztítási idő (MTTC)
≦6 óra
Átlagos javítási idő (MTTR)
≦4 óra
Átlagos hibásközötti idő (MTBF)
≧350 óra
Átlagos idő az asszisztens között (MTBA)
≧24 óra
Átlagos szilíciumlemez a törések között (MWBB)
≦1 a 10 000 szilíciumlemezben
Melegítőlap vezérlés
50-250°
Tesztjelentés
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Gyárnézet
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Csomagolás & Szállítás
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Vállalati profil
16 éves tapasztalattal rendelkezünk berendezés-értékesítés terén. Kínálhatjuk Önnek az egyik állomásból a másikig vezető kínai Semi传导or eleje és végcsomagoló Szerkezeti Berendezések megoldást!
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture

Vizsgálat

Vizsgálat Email WhatsApp Top
×

Vegye fel a kapcsolatot