Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Főoldal
Rólunk
MH Equipment
Megoldás
Külföldi Felhasználók
Videó
Lépjen kapcsolatba velünk
Főoldal> PR eltávolítás RTP USC
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása
  • Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása

Elektronikus ipar ICP laboratóriumi típusú PR eltávolító gép Fotorezisztens maradványok távolítása

Termékleírás

ICP laboratóriumi típusú PR eltávolítás Fényérzékeny Eltávolító gép

Mosás
Polimer eltávolítása
DESCUM
Szárított távolítás kemény maszk rétegből
Fényérzékenység eltávolítása női ion implantálás után
Optikai ellenállás eltávolítása közötti médiák
Fényérzékenység eltávolítása BAW/SAW folyamatban
Szárított takarítás anti-reflektív grafikai film réteg Y
Siliconoxid vagy silícium-nitrid etching
Felszíni maradványok eltávolítása
Felület takarítása az etching után
Silícium-karbúd etching
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
A folyamat
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Előny:

Alapvető Előnnyel

Magas szivárványarány: Magas-sűrűségű plazma, gyors szivárványarány
Stabilitás: Plazma kezelés után magas reprodukálhatóság
Távoli plazma: Távoli plazma, alacsony ion-károsodás a vashoz
Kiemelt szoftver: önállóan fejlesztett szoftver, intuitív folyamatanimáció, részletes adatok és rekordok
Egyenletesség: A plazma nyomást és hőmérsékletet vámpír-zárójel segítségével ellenőrizheti
Biztonsági tényező: Alacsony plazma csökkenti a termék károsodását a kiürítés során.
Utánüzemeltetés: Gyors válaszidő és elég raktári készlet
Por-ellenes ellenőrzés: Megfelel a vevő követelményeinek.
Alaptechnológia: Több mint 40%-a az R&D csapat tagjainak

Cassette Platform (MD-ST 6100/620)

1. 4 Zsinór Tároló
2. Nagy kompatibilitás: a választott zsinórméret rugalmassága növeli a költség- és megoldásefektivitást
3. Magas stabilisítású vakuum átviteli kamra:
A kipróbált és stabil vakuumátviteli tervezés évek óta sikeresen alkalmazva a piacra, és jól elismert a vásárlók részéről.
Tornatervezet, kompakt tér, jelentősen csökkenti a PARTICAL kockázatot
4. Emberi szoftveres működési felület:
Intuitív emberi szoftveres működési felület, valós idejű figyelés a gép futási állapotáról;
Teljes körű riasztási és hibácsökkentési funkciók a helytelen műveletek elkerülése érdekében.
Hatékony adatexportálási funkció, különféle folyamatparaméterek rekordjai és termékgyártási rekordok exportálása.
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

Robot

1. Egy alkalomra kettős réteg vételi és elhelyezési tervezés, amely nagy termelékenységet hoz.
2. Térhasznosítás javítása.
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Melegítő lap

1. Magas pontosságú hőmérséklet-ellenőrzéses réteglap.
Rétegmelegítő lap szobahőmérséklettől 250°C-ig, hőmérséklet-ellenőrzési pontosság ±1°C.
A rétegmelegítő lapot szakmai eszközökkel kalibrálták, és a egyenletes. Belső ±3°C, illetve az eresztés egyenletes biztosítása.
2. Egykamrásvás általános kétszeres rétegfeldolgozás.
Egykamrásvás általános kétszeres rétegfelépítés;
Független tápegység-kibocsátási tervezés minden rétegre, hogy mindegyik réteg. Kerek PR-eresztési hatás;
Az UPH hatékonyság feltételeinek megfelelően csökkentjük a termék költségeit. Erős kompatibilitás.
3. Termelési kapacitás: két részből álló tervezésű reakciós kamra, magas termékenység.
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Specifikáció
PLASMA forrás
RF+BIAS
Teljesítmény
1000W
1000W
600 W
600 W
Alkalmazási kör
4-8 inches
Egyetlen feldolgozási szelet száma
egy
Kijelentkezési méretek
1140mm x 1050mm x 1620mm
Rendszervezérlés
Ipari vezérlőrendszer
Automatizációs szint
Kézi
Hardveres képesség
Felügyeleti idő/Elérhető idő
≧95%
Átlagos tisztítási idő (MTTC)
≦6 óra
Átlagos javítási idő (MTTR)
≦4 óra
Átlagos hibásközötti idő (MTBF)
≧350 óra
Átlagos idő az asszisztens között (MTBA)
≧24 óra
Átlagos szilíciumlemez a törések között (MWBB)
≦1 a 10 000 szilíciumlemezben
Melegítőlap vezérlés
50-250°
Tesztjelentés
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Gyárnézet
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Csomagolás & Szállítás
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Vállalati profil
16 éves tapasztalattal rendelkezünk berendezés-értékesítés terén. Kínálhatjuk Önnek az egyik állomásból a másikig vezető kínai Semi传导or eleje és végcsomagoló Szerkezeti Berendezések megoldást!
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Vizsgálat

Vizsgálat Email WhatsApp Top
×

Vegye fel a kapcsolatot