Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

Főoldal
Rólunk
MH berendezések
Megoldás
Tengerentúli felhasználók
Videó
Kapcsolat
product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-42
Főoldal> PR eltávolítása RTP USC
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal
  • Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal

Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal Magyarország

termékleírás

ICP labor típusú PR eltávolítás Fotoreziszt eltávolító gép

HAMUTÁS
Polimer eltávolítás
DESCUM
A kemény maszkréteg száraz eltávolítása
Fotorezisztencia eltávolítása női ion beültetés után
Optikai ellenállás eltávolítása a közegek között
Fotorezisztencia eltávolítása BAW/SAW eljárással
A tükröződésgátló Y grafikai réteg vegytisztítása
Szilícium-oxid vagy szilícium-nitrid maratás
Felületi maradványok eltávolítása
Felülettisztítás maratás után
Szilícium-karbid maratás
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító
folyamat
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal gyár
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal gyár
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal részletek
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító
Előny:

Alapvető előny

Magas gyantamentesítési sebesség: Nagy sűrűségű plazma, gyors gyantamentesítési sebesség
Stabilitás: Plazmakezelés után nagy reprodukálhatóság
Távoli plazma: Távoli plazma, alacsony ionos károsodás az ostyában
Kiemelt szoftverek: független szoftver kutatás és fejlesztés, intuitív folyamatanimáció, részletes adatok és rekordok
Egyenletesség: A plazma pillangószelepen keresztül tudja szabályozni a nyomást és a hőmérsékletet
Biztonsági tényező: Az alacsony plazmaszint csökkenti a termékkibocsátás károsodását.
Értékesítés utáni szolgáltatás: Gyors reagálás és elegendő készlet
Porvédelem: Megfelel a vevői igényeknek.
Alapvető technológia: a K+F csapat tagjainak közel 40%-ával

Kazettás platform (MD-ST 6100/620)

1. 4 ostyahordozó
2. Magas kompatibilitás: az ostyaméret kiválasztásának rugalmassága magas költségeket és megoldási hatékonyságot eredményez
3. Nagy stabilitású vákuum-átvivő kamra:
A kiforrott és stabil vákuumátviteli kialakítást már évek óta éretten alkalmazzák a piacon, és az ügyfelek jól ismerik.
Lemezjátszó kialakítás, kompakt hely, jelentősen csökkentve a PARTICAL kockázatát
4. Humanizált szoftver kezelési felület:
Intuitív, humanizált szoftverkezelési felület, a futó gép állapotának valós idejű monitorozása;
Átfogó riasztó és bolondbiztos funkciók a hibás működés elkerülése érdekében.
Hatékony adatexportálási funkció, különféle folyamatparaméterek rögzítése és termékgyártási rekordok exportálása.
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító

Robot

1. Egyszeri kettős ostyakiszedő és helykialakítás magas termelékenységet biztosít
2. A térhatékonyság javítása.
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal gyár

Fűtőlap

1. Nagy pontosságú hőmérséklet-szabályozó ostyalemez
Wafer fűtőlap szobahőmérsékletről 250°C-ra, hőmérséklet szabályozási pontosság ±1°C
Az ostya fűtőlemez professzionális műszerekkel lett kalibrálva, és az egyenletesség. ±3°C-on belül biztosítsa a ragasztó eltávolításának egyenletességét
2. Egykamrás kétlapos feldolgozás
Egykamrás, kétlapos kivitel;
Független teljesítménykisülési kialakítás minden ostyához, biztosítva, hogy minden ostya. Kerek PR eltávolító hatás;
Az UPH hatékonyságának biztosítása mellett csökkentse a termékköltséget. Erős kompatibilitás
3. Gyártási kapacitás: kétrészes kialakítású reakciókamra, magas gyártási hatékonyság.
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal gyártás
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító
Leírás
PLAZMA forrás
RF+BIAS
Power
1000W
1000W
600W
600W
Alkalmazható hatókör
4-8 hüvelyk
Egyetlen feldolgozott szeletek száma
egy
Megjelenési méretek
1140mm x 1050mm x 1620mm
Rendszervezérlés
Ipari irányító rendszer
Automatizálási szint
Kézikönyv
Hardver képesség
Üzemidő/Rendelkezésre álló idő
≧ 95%
Átlagos tisztítási idő (MTTC)
≦ 6 óra
Átlagos javítási idő (MTTR)
≦ 4 óra
A hibák közötti átlagos idő (MTBF)
≧ 350 óra
Átlagos idő az asszisztensek között (MTBA)
≧ 24 óra
Átlagos ostya törött (MWBB) között
≦ 1 a 10,000 XNUMX ostyából
Fűtőlap vezérlés
50-250 °
Vizsgálati jelentés
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal gyár
Gyári nézet
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal részletek
Csomagolás és szállítás
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal gyártás
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító
Company Profile
16 éves tapasztalattal rendelkezünk berendezések értékesítésében. Kínából egyablakos Semiconductor frontend és back end Package Line Equipments megoldást tudunk biztosítani Önnek!
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal részletek
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal gyártás
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal szállító
Félvezető ipari ICP labor típusú PR eltávolító gép Photoresist Residual Removal gyár

Vizsgálat

product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-83Vizsgálat product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-84E-mail product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-85WhatsApp product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-86 WeChat
product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-87
product semiconductor industry icp lab type pr removal machine photoresist residual removal-88felső
×

Vegye fel velünk a kapcsolatot!