Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

հjemէջ
Մեր մասին
MH Equipment
Հաղորդում
Երկիրացի Օգտագործողներ
տեսանյութ
Կապվեք մեզ հետ
Տուն> PR հեռացում RTP USC
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer
  • ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer

ICP 干货 Plasma հանել Photoresist / Plasma Photoresist հանում (PR) մաքինային semiconductor wafer

Ապարատի Նկարագրություն

ICP PLASMA Հեռացում ֆոտորեզիստ մաքնին

ASHING
Պոլիմերի հեռացում
Հատուկ շերտի 干货 հեռացում
Իոնային դնումից հետո ֆոտոռեզիստի հեռացում
BAW/SAW գործընթացում ֆոտոռեզիստի հեռացում
Անտիրեֆլեքսիվ գրաֆիկական մակուրդի համար խառնապաշարություն
Մակերևույթի մնացորդների հեռացում
Էտչինգից հետո մակերևույթի կLEANing
DESCUM
ICP dry plasma fotoresistancen dasavorum mashin e patasxan DESCUM (predvaritelno tratovka, fotoresistancen arjeqneri dasavorum) Polimer dasavorum (PI, BCB, PBO) Ion implantationn poxosutyunahetev, fotoresistancen dasavorum, hinger, gatut'yun e patasxan 8-dzayn nshanneri (4-6 dzayn sovoretq)
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer manufacture
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer factory
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier
Տехնիկ 특성
ՊԼԱԶՄԱ
RF
RF
Էներգիա
ICP
1000W
1000W
BIAS
600w(option)
600w(option)
Օգտագործելու շրջակայք
4~8 դյույմ
4~8 դյույմ
Միայն մշակում սահմանափակություն
1
2
Արտահայտության չափեր
1080x1840x1800mm
1340x2050x1800mm
սիստեմային կառավարում
Համալիրական կառավարման համակարգ
Համալիրական կառավարման համակարգ
Ավտոմատացման մակարդակ
Ավտոմատ
Ավտոմատ
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details
Պակետավորում և առաքելություն
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer factory
Կոմպանիայի պրոֆիլ
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier
ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details

Հարցում

Հարցում Email whatsapp Top
×

ԿԱՊԸ ԵՆԴ ՏOUCH