Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine , Չինաստան Կիսահաղորդչային վաֆլի Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine Manufacturers, Suppliers, Factory

Նկարագրություն

RIE Plasma photoresist հեռացման մեքենա

RIE Plasma photoresist հեռացման մեքենա, որը հարմար է սիլիցիումի կարբիդի փորագրման, մակերեսի մնացորդների հեռացման, սիլիցիումի օքսիդի կամ սիլիցիումի նիտրիդի փորագրման և այլնի համար: Խոռոչը հարմար է 4-8 դյույմ նմուշների համար:

Սիլիցիումի կարբիդի փորագրում
Մակերեւույթի մաքրում փորագրումից հետո
DESCUM
Դիմակի կոշտ շերտ, չոր հեռացում
Սիլիցիումի օքսիդ կամ սիլիցիումի նիտրիդ փորագրում
Մեդիաների միջև օպտիկական դիմադրության հեռացում
Մակերեւույթի մնացորդների հեռացում

Կիսահաղորդիչ վաֆլի Սիլիկոնային կարբիդային փորագրում RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine գործարան

Կիսահաղորդիչ վաֆլի Սիլիկոնային կարբիդային փորագրում RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine մատակարար

մասնագիր

ՊԼԱԶՄԱ աղբյուր			RF
Ուժ	ICP	_
Ուժ		ԲԻԱՍ	1000 Վտ (տարբերակ)
Կիրառելի շրջանակ			4-8 դյույմ
Մեկ մշակման կտորների հաշվարկ			1
Արտաքին տեսքի չափերը			850mmx900mmx1850mm
Համակարգի կառավարում			PLC
Ավտոմատացման մակարդակ			ձեռնարկ