Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Halaman Utama
Tentang Kami
MH Equipment
Solusi
Pengguna Luar Negeri
Video
Hubungi Kami

Etching kembali photoresist

Proses yang menggunakan bahan kimia khusus untuk menghilangkan secara selektif bagian atas dari material yang disebut photoresist. Photoresist adalah material perekat yang aktif terhadap cahaya. Sifat yang diubah dari material fotosensitif ini memungkinkan pembentukan bentuk dan desain unik selama paparan cahaya. Dengan cara ini, kita dapat menghasilkan desain berdefinisi tinggi yang dapat dibaca pada permukaan perangkat elektronik — informasi yang diperlukan agar perangkat tersebut dapat bekerja.

Zat pengikis (etchant) diterapkan selama proses pengikisan photoresist. Ketika zat pengikis ini bersentuhan dengan material photoresist, ia secara dasar memakan sebagian lapisan luar di mana kita ingin menyimpan dan menghilangkan — pola kita. Hal ini berguna dalam kasus bentuk yang memiliki ketinggian berbeda seperti beberapa tingkat. Ini memungkinkan kita untuk membuat desain rumit yang diperlukan untuk teknologi tinggi.

Bagaimana etching kembali photoresist meningkatkan manufaktur semikonduktor

Terdapat beberapa keuntungan utama dalam menggunakan proses etch back photoresist untuk aplikasi elektronik. Terutama, proses ini menciptakan pola kerja yang sangat presisi. Karena kesalahan dalam salah satu pola dapat menyebabkan masalah pada cara sebuah perangkat beroperasi, penting agar langkah ini sangat akurat. Jika desain-desain tersebut sedikit saja keluar dari harapan, maka akan mengakibatkan perangkat tidak berfungsi sesuai rencana. Kesalahan-kesalahan ini diminimalkan oleh proses etch back photoresist yang menghasilkan fitur-fitur yang presisi dan akurat, cocok untuk diimplementasikan dalam wafer.

Bukan hanya ini meningkatkan akurasi, tetapi juga memperbaiki sesuatu yang disebut rasio aspek. Rasio Aspek — Rasio aspek adalah hubungan antara tinggi dan lebar suatu objek. Jika kita menghapus lapisan material photoresist di atas dengan hati-hati, maka kita dapat meningkatkan rasio aspeknya tanpa merusak lapisan berikutnya. Perkembangan ini membuatnya lebih mudah untuk menciptakan bentuk yang lebih kompleks yang diperlukan untuk membuat chip komputer generasi berikutnya dan perangkat elektronik lainnya.

Why choose Minder-Hightech Etching kembali photoresist?

Kategori produk terkait

Tidak menemukan apa yang Anda cari?
Hubungi konsultan kami untuk produk tersedia lebih banyak.

Ajukan Penawaran Sekarang
Inquiry Email Whatsapp WeChat
Top