Minder-Hightech adalah produsen semikonduktor. Semikonduktor merupakan komponen kritis dari banyak hal yang membuat kehidupan modern, seperti ponsel dan komputer. Sekarang, ada beberapa langkah dalam pembuatan semikonduktor, tetapi langkah pertama adalah membuat pola pada permukaan datar yang dikenal sebagai wafer.

Untuk membuat pola ini, kita menyetor bahan khusus pada wafer. Zat ini dikenal sebagai photoresist. Setelah kita meletakkan photoresist, kita memaparkannya terhadap cahaya. Di bawah cahaya, area tertentu dari photoresist mengeras dan menjadi kuat. Area yang berada di bayangan tetap lembut dan dapat dihapus.

Setelah mendapatkan pola yang diinginkan pada wafer, photoresist harus dihilangkan dari area-area tempat kita akan melakukan pemrosesan lebih lanjut. Ini adalah saat di mana Plasma Cleaner berperan, secara harfiah.

Metode berbasis plasma untuk penghapusan photoresist

Plasma adalah keadaan gas dengan tingkat energi yang tinggi, akibat muatan listrik tinggi yang diterapkan padanya. Dan gas aktif ini sangat berguna untuk menghilangkan photoresist pada permukaan wafer. Melalui plasma, photoresist dapat menjadi rapuh dan membersihkannya menjadi jauh lebih mudah.

Kami memiliki dua teknik berbeda menggunakan plasma untuk penghapusan photoresist: dry etching (pemotongan kering) dan ashing (pengabuan).

Dry etching: Dalam teknik ini, plasma yang sebenarnya berinteraksi dengan photoresist. Plasma bereaksi dengan photoresist di tempat mereka bersentuhan. Reaksi ini memecah photoresist dan mengubahnya menjadi gas. Zat gas ini kemudian dapat dibersihkan dari permukaan wafer, sehingga mengekspos area-area yang kita perlukan bersih dan siap untuk proses selanjutnya.

Ashing — Metode ini adalah cara yang berbeda untuk melakukannya, di mana plasma non-reaktif digunakan untuk photoresist. Plasma memecah photoresist menjadi potongan kecil-kecil. Kemudian potongan-potongan kecil tersebut dapat dicuci dari wafer. Pendekatan ini cocok dan melindungi wafer sambil menghilangkan photoresist yang tidak diperlukan.

Menggunakan plasma reaktif untuk penghapusan photoresist

Plasma Surface Treatment adalah alat yang sangat kuat yang membantu kita menghilangkan photoresist paling sulit dari wafer. Plasma itu luar biasa dengan hakikatnya sendiri, tetapi bagian terbaiknya adalah kita bisa menjadikannya sebagai agen selektif super. Itu berarti ia dapat disesuaikan untuk hanya bereaksi secara spesifik dengan photoresist, bukan dengan bahan-bahan lain di bawahnya.

Misalnya: Jika kita memiliki pola di wafer di mana logam ditempatkan di bawah photoresist, kita bisa menggunakan jenis plasma yang bereaksi hanya dengan photoresist. Dengan demikian, kita bisa mengikis photoresist tanpa merusak logam di bawahnya. Sekarang, ini sangat krusial karena kita membutuhkan semua bagian wafer untuk mempertahankan integritasnya selama proses.

Teknik Plasma untuk Penghilangan Photoresist

Minder-Hightech menggunakan teknologi plasma modern untuk menghilangkan photoresist dari wafer kami. Hal ini memungkinkan kami untuk membuat semikonduktor tanpa kesalahan, yang berkualitas tinggi.

Cepat, dapat disesuaikan dengan kebutuhan Anda Sistem kami dirancang untuk terintegrasi mulus ke dalam alur kerja Anda. Ini berarti bahwa kami mampu menghilangkan photoresist dalam waktu singkat. Dan karena kami cepat, kami memenuhi seluruh permintaan pelanggan kami, memberikan produk-produk hebat ketika mereka membutuhkannya.

Namun, sistem plasma kami juga sangat akurat, selain dari efisiensinya. Ketelitian ini memberi kami kemampuan untuk menghilangkan hanya photoresist itu sendiri. Teknologi kami mencegah semua bagian lain dari wafer mengalami kerusakan akibat proses kami, dan kami tidak bisa membiarkan hal itu terjadi. Praktik metode ini menjadi semakin penting untuk kualitas semiconductor yang kami produksi.

Penghilangan Photoresist yang Disebabkan Plasma pada Semiconductor

Jadi, secara singkat, plasma adalah kekuatan super yang memungkinkan kita untuk menghilangkan beberapa lapisan photoresist dari permukaan wafer dengan cara yang sangat efektif. Kami, di Minder-Hightech, menerapkan teknologi plasma terbaru dan terbaik untuk menghasilkan semikonduktor dengan kualitas tanpa cacat sama sekali. Saat berbicara tentang sistem plasma, solusi kami dirancang untuk menyeimbangkan kecepatan dengan ketepatan, sambil tetap sangat efisien. Ini berarti mampu memenuhi permintaan pelanggan kami serta memberikan produk berkualitas tanpa gagal. Hal ini bertujuan untuk meningkatkan proses semikonduktor yang kami gunakan. penghapusan plasma teknologi yang membuat semikonduktor kami sebaik mungkin untuk semua jenis perangkat elektronik agar menjadi alat yang dapat diandalkan.