Penghilangan Photoresist Plasma Kering ICP / Mesin Penghilang Photoresist (PR) Plasma untuk wafer semikonduktor , China Penghilangan Photoresist Plasma Kering ICP / Mesin Penghilang Photoresist (PR) Plasma untuk wafer semikonduktor Manufacturers, Suppliers, Factory

Deskripsi Produk

Mesin Pengangkatan Photoresist PLASMA ICP

cuci
Penghapusan polimer
Penghapusan lapisan hard mask secara kering
Penghapusan photoresist setelah implantasi ion
Penghapusan photoresistance dalam proses BAW/SAW
Pembersihan kering lapisan film grafik anti-reflektif
Pembersihan sisa permukaan
Pembersihan permukaan setelah etching
DESCUM

Mesin penghilang plasma fotoresist ICP kering cocok untuk DESCUM (pra-pengolahan, penghapusan sisa fotoresist) Penghapusan polimer (PI, BCB, PBO) Setelah implantasi ion, penghapusan fotoresist, dll., rongga cocok untuk sampel 8 inci (4-6 inci kompatibel)

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer manufacture

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer factory

Spesifikasi

Plasma			rF	rF
Daya	ICP	1000W	1000W
Daya		BIAS	600w(opsi)	600w(opsi)
Ruangan Penerapan			4~8 inci	4~8 inci
Jumlah irisan pengolahan tunggal			1	2
Dimensi penampilan			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
kontrol sistem			Sistem kontrol industri	Sistem kontrol industri
Tingkat Otomatisasi			Otomatis	Otomatis