Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

halaman utama
Tentang Kami
MH Equipment
Solusi
Pengguna Luar Negeri
video
Hubungi Kami
Beranda> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan
  • Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan

Sistem Etching Ion Reaktif Mesin RIE Analisis Kegagalan

Deskripsi Produk
Sistem etching ion reaktif
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis supplier
Aplikasi
Lapisan pasivasi: SiO2, SiNx
Belakang silikon
Lapisan perekat: TaN
Lubang tembus: W
Fitur
1. Etching lapisan pasivasi dengan atau tanpa lubang;
2. Pengikisan lapisan perekat;
3. Pengikisan silikon belakang
Spesifikasi
Konfigurasi proyek dan diagram struktur mesin
Item
MD150-RIE
MD200-RIE
MD200C-RIE


Ukuran Produk
≤6 inci
≤8 inci
≤8 inci


Sumber daya RF
0-300W/500W/1000W Adjustable, cocok otomatis


Pompa Molekuler
-\/620(L\/s)\/1300(L\/s)\/Custom

Antiseptik620(L\/s)\/1300(L\/s)\/Custom

Foreline pompa
Pompa mekanis\/pompa kering

Pompa Kering

Tekanan proses
Tekanan tidak terkendali\/0-1Torr tekanan terkendali


Jenis gas
H\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/SF6\/CF4\/
CHF3\/C4F8\/NF3\/Custom
(Hingga 9 saluran, tanpa gas korosif & toksik)

H2\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/F6\/CF4\/ CHF3\/C4F8\/NF3\/Cl2\/BCl3\/HBr(Hingga 9 saluran)

rentang gas
0~5sccm\/50sccm\/100sccm\/200sccm\/300sccm\/500sccm\/custom


LoadLock
Ya/Tidak

Ya

Kontrol tem sampel
10°C~Tem Ruangan/-30°C~100°C/Custom

-30°C~100°C/Custom

Pendinginan helium belakang
Ya/Tidak

Ya

Lapisan rongga proses
Ya/Tidak

Ya

Kontrol tem dinding rongga
Tidak/Tem Ruangan~60/120°C

Tem Ruangan-60/120°C

Sistem Kontrol
Otomatis/kustom


Bahan pengikisan
Berdasarkan silikon: Si/SiO2/SiNx.
IV-IV: SiC
Bahan magnetik/bahan paduan
Bahan logam: Ni/Cr/Al/Au.
Bahan organik: PR/PMMA/HDMS/Film organik.

Berdasarkan silikon: Si/SiO2/SiNx.
III-V (catatan 3): InP/GaAs/GaN.
IV-IV: SiC
II-VI (catatan 3): CdTe.
Bahan magnetik/bahan paduan
Bahan logam: Ni/Cr/Al/Au.
Bahan organik: PR/PMMA/HDMS /film organik.

1. Mencegah serpihan chip terbang
2. Node minimum yang dapat diproses: 14nm:
3. Tingkat etching SiO2/SiNx: 50~150 nm/menit;
4. Kecerunan permukaan yang dietching: 5. Mendukung lapisan pasivasi, lapisan adhesi, dan pengetchan silikon belakang;
6. Rasio seleksi Cu/Al:>50
7. Mesin all-in-one LxWxH: 1300mmX750mmX950mm
8. Mendukung eksekusi satu-klik
Hasil proses

Pengetchan bahan berbasis silikon

Bahan berbasis silikon, pola nano-imprint, array
pola dan pengikisan pola lensa
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis factory

Pengikisan suhu normal InP

Pengikisan pola dari perangkat berbasis InP yang digunakan dalam komunikasi optik, termasuk struktur pandu gelombang, struktur rongga resonan.
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis supplier

Pengikisan bahan SiC

Cocok untuk perangkat mikrogelombang, perangkat daya, dll.


Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis details

Penyemprotan fisik, pengikisan materi organik

Digunakan untuk pengikisan bahan yang sulit diikis seperti beberapa logam (seperti Ni/Cr) dan keramik, dan
pengikisan terpola.
Digunakan untuk pengikisan dan penghapusan senyawa organik seperti resist foto (PR)/PMMA/HDMS/polimer
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis factory
Tampilan hasil analisis kegagalan
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis manufacture
Detail Produk
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis details
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis manufacture
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis supplier
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis factory
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis manufacture
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis factory
Packing & Pengiriman
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis factory
Reactive ion etching system RIE machine RIE Failure analysis details
mesin pengemasan
Profil Perusahaan

Mesin Minder-High-tech Reactive Ion Etching (RIE) adalah teknologi terkini yang dapat mengukir dan menganalisis berbagai jenis bahan dengan presisi luar biasa. Mesin ini dirancang untuk digunakan di berbagai industri di mana mikrofabrikasi atau pengukiran diperlukan secara rutin. Terbuat dari bahan berkualitas tinggi yang membuatnya tahan lama, andal, dan mampu menghasilkan hasil yang sangat baik.

 

Dilengkapi dengan generator plasma RF yang efektif. Sistem RIE menggunakan koneksi induktif untuk menghasilkan plasma dari bahan bakar masukan. Teknik ini menciptakan plasma dengan densitas tinggi yang meningkatkan laju pengukiran terkait produk. Proses pengukiran mesin RIE efektif, akurat, dan sangat terkendali, memungkinkan kedalaman tertentu untuk dicapai. Fitur ini menjadikannya pilihan yang sangat baik untuk penelitian atau pekerjaan industri.

 

Mesin ini memiliki rentang aplikasi yang luas, termasuk mikroelektronik, fabrikasi MEMS, dan fabrikasi semikonduktor. Mesin ini memainkan peran penting dalam proses etching dan mikromekanik bahan semikonduktor seperti silikon, arsenida galium, dan germanium dalam industri semikonduktor. Perangkat RIE Minder-High-tech juga telah diadopsi dalam industri MEMS untuk membuat bahan lunak dan keras seperti poliiamida, oksida silikon, dan nitrida silikon. Selain itu, mesin ini juga tersedia untuk analisis kegagalan dalam industri yang terkait dengan layanan dan produk elektronik.

 

Mencakup fitur-fitur yang beragam sehingga memudahkan penggunaannya. Ini adalah perangkat lunak yang ramah pengguna dan memberikan operator kendali penuh atas parameter etching yang digunakan dalam mesin. Pengaturan mesin disimpan ke memori internalnya, yang dapat menyimpan lebih dari 100 set pengaturan. Mesin ini memiliki layar sentuh yang memungkinkan operator menetapkan parameter seperti aliran gas, kepadatan daya, dan tekanan. Mesin Minder-High-tech RIE juga memiliki fitur kontrol suhu yang memastikan bahan-bahan dietching pada suhu yang tepat dan mencegah kerusakan terhadap mereka.

 

Sempurna untuk perusahaan yang membutuhkan mesin yang andal dan efisien yang dapat memberikan hasil yang akurat dan presisi. Perangkat ini dirancang dengan teknologi kelas atas dan tingkat yang sangat tinggi. Kemampuan fleksibilitas dan fitur ramah pengguna membuatnya menjadi pilihan yang sangat baik untuk aplikasi penelitian dan industri di berbagai sektor.

 

Sistem juga memiliki analisis kegagalan yang efisien yang memungkinkan mesin mendeteksi dan mengoreksi masalah mekanis secepat mungkin. Sistem ini menjamin bahwa mesin RIE Minder-High-tech mempertahankan kualitas tinggi dan keandalan sepanjang siklus hidupnya. Untuk setiap industri yang membutuhkan pengikisan atau mikrofabrikasi yang tepat dan efisien, mesin RIE Minder-High-tech adalah solusi yang sempurna.


Inquiry

Inquiry Email whatsapp WeChat
Top
×

Hubungi Kami