Industri semikonduktor Mesin penghilang PR ICP PLASMA Penghapusan Sisa Photoresist , China Industri semikonduktor Mesin penghilang PR ICP PLASMA Penghapusan Sisa Photoresist Manufacturers, Suppliers, Factory

Deskripsi Produk

Penghapus Photoresist ICP PLASMA

cuci
Penghapusan polimer
Penghapusan lapisan hard mask secara kering
Penghapusan photoresist setelah implantasi ion
Penghapusan photoresistance dalam proses BAW/SAW
Pembersihan kering lapisan film grafik anti-reflektif
Pembersihan sisa permukaan
Pembersihan permukaan setelah etching
DESCUM

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture

Proses

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Keuntungan:

Keuntungan inti

Tingkat penghilangan tinggi: Plasma padat, tingkat penghilangan cepat
Kestabilan: Setelah pengobatan plasma, reproduktivitas tinggi
Plasma jarak jauh: Plasma jarak jauh, kerusakan ion rendah pada wafer
Perangkat lunak unggulan: penelitian dan pengembangan perangkat lunak mandiri, animasi proses yang intuitif, data dan catatan rinci
Keseragaman: Plasma dapat mengontrol tekanan dan suhu melalui katup kupu-kupu
Faktor keamanan: Plasma rendah mengurangi kerusakan pada pelepasan produk.
Layanan purna jual: Tanggapan cepat dan persediaan yang memadai
Pengendalian debu: Memenuhi persyaratan pelanggan.
Teknologi inti: Dengan hampir 40% anggota tim R&D

Platform Kaset (MD-ST 6100/620)

1. 4 Pengangkut Wafer
2. Kompatibilitas tinggi: fleksibilitas pemilihan ukuran wafer memberikan efisiensi biaya dan solusi yang tinggi
3. Kamar transfer vakum stabil tinggi:
Desain transmisi vakum yang matang dan stabil telah diterapkan secara matang di pasar selama bertahun-tahun dan sangat diakui oleh pelanggan.
Desain turntable, ruang kompak, secara signifikan mengurangi risiko PARTIKEL
4. Antarmuka operasi perangkat lunak yang ramah manusia:
Antarmuka operasi perangkat lunak yang intuitif dan ramah manusia, pemantauan waktu nyata dari status operasi mesin;
Fungsi alarm dan pencegahan kesalahan komprehensif untuk menghindari kesalahan operasi.
Fungsi ekspor data yang kuat, catatan berbagai parameter proses, dan ekspor rekaman produksi produk.

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal details

robot

1. Desain pengambilan dan penempatan dua wafer sekaligus membawa produktivitas tinggi
2. Meningkatkan efisiensi ruang.

Piring pemanas

1. Kontrol suhu presisi tinggi untuk piring wafer
Piring pemanas wafer dari suhu ruangan hingga 250°C, akurasi kontrol suhu ±1°C
Piring pemanas wafer telah dikalibrasi dengan alat profesional, dan keseragaman dalam ±3°C, memastikan keseragaman penghilangan lem
2. Pengolahan dua wafer dalam satu kamar
Desain dua wafer dalam satu kamar;
Desain pelepasan daya independen untuk setiap wafer, memastikan efek penghapusan PR bulat pada setiap wafer;
Dengan tetap mempertahankan efisiensi UPH, mengurangi biaya produk. Kompatibilitas kuat
3. Kapasitas produksi: reaktor desain dua bagian, efisiensi produksi tinggi.

Spesifikasi

Plasma			rF	rF
Daya	ICP	1000W	1000W
Daya		BIAS	600w(opsi)	600w(opsi)
Ruangan Penerapan			4~8 inci	4~8 inci
Jumlah irisan pengolahan tunggal			1	2
Dimensi penampilan			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
kontrol sistem			Sistem kontrol industri	Sistem kontrol industri
Tingkat Otomatisasi			Otomatis	Otomatis

Kemampuan Perangkat Keras
Waktu operasi/Waktu tersedia	≧95%
Waktu rata-rata untuk membersihkan (MTTC)	≦6 jam
Waktu rata-rata untuk memperbaiki (MTTR)	≦4 jam
Waktu rata-rata antar kegagalan (MTBF)	≧350 jam
Waktu rata-rata antar bantuan (MTBA)	≧24 jam
Rata-rata wafer antar kerusakan (MWBB)	≦1 dalam 10.000 wafer
Kontrol papan pemanas	50-250°

laporan uji

Tampilan Pabrik

Packing & Pengiriman

Profil Perusahaan

Kami memiliki 16 tahun pengalaman dalam penjualan peralatan. Kami dapat menyediakan solusi satu atap untuk Peralatan Garis Paket Frontend dan Backend Semikonduktor dari Tiongkok!