Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Forsíða
Um okkur
MH Equipment
Lausn
Notendur í erlendum
Myndband
Hafa samband
Heim > Fjarlægning PR RTP USC
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk
  • Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk

Rensla Ferðiflokk semiconductors eftir Etching ICP Kennileg Plasma Ljósþverufjarvinnsluverk

Vöruskýring

ICP Kennileg Plasma Photoresist Fjarlægning Vél

Polymer fjarlægning, silíkonoxíð eða silíkonkarbíð etching, ytra renning eftir etching
Fjarlægning af polymer með ASHING Þurr fjarlægning áhættaða skyggulags Fjarlægning myndvörku eftir jónarsetningu Fjarlægning ljosmyndvörku milli miða Þurr fjarlægning myndvörku í BAW\/SAW-ferli Þurr hreinsun af örvirkjanlegri myndvörkulagi Etching af silísoksidu eða silísnitridu Fjarlægning ytra afgangsafraeda Hreinsun ytra eftir etching Etching af silískarboní
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Stafrænir
PLASMA vist
RF+BIAS
Aflið
1000w
1000w
600W
600W
Virkjunargildi
4-8 colmar
Tölu af enni sem er vinna með einu sinni
eitt
Útlit
1140mm x 1050mm x 1620mm
Kerfisstjóri
Vinnslu stýringar kerfi
Þróunarstig
Hændaskrár
Verksmiðja
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Pakking & Afhentun
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Fyrirtækisupplýsingar
16 ár af stefnu í útflutningu tækifaera! Því miður getum við boðið ykkur heildarlausn fyrir ferli og tæki fyrir framanlega hlutafræði!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Fyrirspurn

Fyrirspurn Email Whatsapp Top
×

Hafa samband