$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$
$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$
$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$
$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$
$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$
$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$

$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$
$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$
$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$
$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$
$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$
$ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors$

ICP dry Plasma Fjarvinnsla Ljósþveru \/ Plasma Ljósþverufjarvinnslu (PR) verk fyrir ferðiflokk semiconductors

Vöruskýring

ICP PLASMA Fjarlægning ljósþverils fyrirtækja

ASHING
Polymer fjarlægning
Þurr fjarlægning á harðri maskalagi
Fjarlægning photoresistance eftir jónauppsetningu
Fjarlægning photoresistance í BAW/SAW-ferli
Þurrrengslu af óspegillagluggmyndarskermi
Fjarðarréttun á yfirborði
Hreinsun yfirborðs eftir ettingu
DESCUM

Tökuhlut fyrir DESCUM (fyrri vinna, fjarlægning ljósþverisuppsafna) Polymerviðskipti (PI, BCB, PBO) Eftir jónaísetningu, fjarlægning ljósþvera, o.s.frv., kassan er viðkomandi fyrir 8-tómunarpróf (4-6 tómunargagnvart)

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer manufacture

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer factory

Stafrænir

Plasma			RF	RF
Aflið	ICP	1000w	1000w
Aflið		BIAS	600w(val)	600w(val)
Virkjunargildi			4~8 colli	4~8 colli
Tölu af enni sem er vinna með einu sinni			1	2
Útlit			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Kerfisstjóri			Vinnslu stýringar kerfi	Vinnslu stýringar kerfi
Þróunarstig			Sjálfvirkt	Sjálfvirkt