Vinnusvið rafmagnsfeings ICP PLASMA PR fjarlægningaraðgerð Fjarlægning niðurstöðu Photoresist , China Vinnusvið rafmagnsfeings ICP PLASMA PR fjarlægningaraðgerð Fjarlægning niðurstöðu Photoresist Manufacturers, Suppliers, Factory

Vöruskýring

ICP PLASMA Photoresist Fjarlægning

ASHING
Polymer fjarlægning
Þurr fjarlægning á harðri maskalagi
Fjarlægning photoresistance eftir jónauppsetningu
Fjarlægning photoresistance í BAW/SAW-ferli
Þurrrengslu af óspegillagluggmyndarskermi
Fjarðarréttun á yfirborði
Hreinsun yfirborðs eftir ettingu
DESCUM

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture

Ferli

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Kostur:

Aðalþegarverk

Háð degumingarhlutfall: Hæfileg plasma, hratt degumingarhlutfall
Stöðugleiki: Eftir plasmaþáttri, háð uppskiptanleiki
Fjarlægt plasma: Fjarlægt plasma, lág ion skemmtun á vafri
Eiginleg tækjakerfi: sjálfstætt rannsókn og útbúið kerfi, auðveld processafræði, nákvæmar gögn og skrár
Jafnaður: Plasma getur stjórnað þrýstingu og hita með fjölbutter
Tryggingarfaktor: Lág plasma minnkar skemmtun við vöru útskifti.
Þjónustu eftir kaup: Hrað samsvar og nógu af safni
Kynningastjórnun: Upplýsingar samanstendur við notenda kröfur.
Gagnvirð kerfis: Með næst 40% starfsmanna í rannsókn og útbúð

Cassette Platform (MD-ST 6100/620)

1. 4 Platakarrafluglar
2. Hæfileg samvinnufága: flekjafrjálsliga völd platarstærðar er hækkaður kosta og lausnarspeki
3. Hæfileg stöðug vacuum skiptaraðil:
Þekkt og stöðug vacuum sendir design hefur verið þekkt á markaðinum um mörg ár og er vel kunnuga af viðskiptavinum.
Snúningaspjóls útlag, smækkt rými, merkingarlag lækka PARTIKL riskur
4. Mannleg tól ferli viðskiptavélisins:
Skiljanlegt mannlegt tól ferli viðskiptavélisins, rauntíma athugun á stöðu virkjunar vélar;
Fulltrú fullkomnun og óskilgreind fyrirspurn til að forðast rangt framkvæmd.
Mjög sterk gagnaleiðingargerð, skráningar af mismunandi ferlifæribreytur, og leiðingarframkvæmdir fyrir vörulaga.

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal details

Robot

1. Einauðlýsing á tvöfaldri vafratökku og setningu bætir háttækni.
2. Bætir hússnotuþrautum.

Hitastofa

1. Háþræð hitastjórnun á vafrastofu
Vafrahitastofa frá rúmhitunni upp í 250°C, hitastjórnunarþróa ±1°C
Vafrahitastofan hefur verið samstillt með faglegt tæki, og jafnvægi. Innan ±3°C, vistnar jafnvægi við gluggunartenginguna
2. Ennibólsvinnsla á tveimur vafri
Ennibólsviðgerð fyrir tvo vafra.
Sérsniðin afsláttur fyrir hverja vafrastofu, vistnar að hver vafrur. Rundur PR fjarvinningsáhrif;
Undir forsendu UPH-hiti, lækka vörumerki kostnaði. Sterk samvirkni
3. Framleiðslukappi: tvíhlutur útlagskammur, há framleiðsluaðgerð.

Stafrænir

Plasma			RF	RF
Aflið	ICP	1000w	1000w
Aflið		BIAS	600w(val)	600w(val)
Virkjunargildi			4~8 colli	4~8 colli
Tölu af enni sem er vinna með einu sinni			1	2
Útlit			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Kerfisstjóri			Vinnslu stýringar kerfi	Vinnslu stýringar kerfi
Þróunarstig			Sjálfvirkt	Sjálfvirkt

Tækifæriborgir
Uppskurðartími / Tilboðinn tími	≧95%
Meðaltími til að hreinsa (MTTC)	≦6 klukkustundir
Meðaltími til að laga (MTTR)	≦4 klukkustundir
Meðaltími milli tækifalla (MTBF)	≧350 klukkustundir
Meðaltími milli aðstoðar (MTBA)	≧24 klukkustundir
Meðalvafri milli brotans (MWBB)	≦1 í 10.000 vöfum
Hitavafra stjórnun	50-250°

Prófunarskýrsla

Vöruvörp

Pakking & Afhentun

Fyrirtækisupplýsingar

Við höfum 16 ár af stefnu í þrumarkaða. Við getum birt fyrir ykkur eina-stöðu lausn fyrir Tínsemi framan og bak við pakka línu tengdar tímariti úr Krú!