CVD აღჭურვილობა გრაფენისა და ნანომილაკების მასალებისთვის / ნახევარგამტარული მოწყობილობებისთვის, ჩინეთი CVD აღჭურვილობა გრაფენისა და ნანომილაკების მასალებისთვის / ნახევარგამტარული მოწყობილობებისთვის მწარმოებლები, მომწოდებლები, ქარხანა

პროდუქტის აღწერა

CVD აღჭურვილობა გრაფენისა და ნახშირბადის ნანომილის მასალებისთვის

მოწყობილობა ძირითადად გამოიყენება გრაფენისა და ნანო მასალების საპროცესო საფარისთვის; პოლიკრისტალური სილიციუმის და სილიციუმის კარბიდის დიფუზია, დაჟანგვა და ანილირება.

CVD მოწყობილობა გრაფენისა და ნახშირბადის ნანომილის მასალებისთვის / ნახევარგამტარული მოწყობილობის დეტალები

CVD აღჭურვილობა გრაფენისა და ნახშირბადის ნანომილის მასალების / ნახევარგამტარული აღჭურვილობის ქარხნისთვის

სპეციფიკაცია

სტრუქტურული სტილი	ჰორიზონტალური, ერთი მილის ან მრავალ მილის სისტემის ავტომატური კონტროლი
მორგება ვაფლის ზომას	2-8 ″
ვაფლის მიწოდებისა და მოპოვების მეთოდი	ავტომატური კონსოლი კვარცის ბიძგი-გაყვანის ნავი, კომბინირებული ჩიპების ხელით აღებასთან და გამოშვებასთან.
მაქსიმალური ტემპერატურა	1050 ℃
სამუშაო ტემპერატურა	400 ℃~850 ℃ მუდმივად რეგულირებადი
ერთპუნქტიანი ტემპერატურის სტაბილურობა	400℃~850℃≤±0.5℃/24სთ
სისტემის ლიმიტის ვაკუუმი	უკეთესია, ვიდრე 1Pa
ტუმბოს სიჩქარე	ტუმბოს დრო ვაკუუმის შეზღუდვისთვის ＜ 15 წთ
სამუშაო წნევის დიაპაზონი	5Pa-დან 1 × 105Pa-მდე მუდმივად რეგულირებადი
ენერგიის წყარო	3ფაზიანი 5-მავთული 380V±10%,50Hz
გამაგრილებელი წყალი	2~4 კგფ/სმ², 8ლ/წთ;

შეფუთვა და მიწოდება

კომპანიის პროფილი

ჩვენ გვაქვს 16 წლიანი გამოცდილება აღჭურვილობის გაყიდვაში. ჩვენ შეგვიძლია მოგაწოდოთ ერთი გაჩერების ნახევარგამტარული წინა და უკანა ხაზის პაკეტის მოწყობილობების პროფესიონალური გადაწყვეტა ჩინეთიდან.