Სემიკონდუქტორული ვაფერის პლაზმის ფოტორეზისტის შლების მანქანა PR შლების მანქანა სერიოზული , China Სემიკონდუქტორული ვაფერის პლაზმის ფოტორეზისტის შლების მანქანა PR შლების მანქანა სერიოზული Manufacturers, Suppliers, Factory

Პროდუქტის აღწერა

BATCH PLASMA Სემიკონდუქტორული ვაფერის ფოტორეზისტის ამოღების მაშინი

Მუშაობის ტემპერატურა დაბალია და შეძლებს პლაზმის მაინტენანსს მაღალ წნევაზე

DESCUM ვაფერის მოხუცვა ფოტორეზისტის ტყეური ამოღება ზედაპირის ნაშრომის ამოღება ფოტორეზისტის ნაშრომის ამოღება გამოსახურების და განვითარების შემდეგ

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious factory

Სპეციფიკაცია

Პლაზმური წყარო	RF	მიკროტალღური ღუმელი
Ენერგია	1000W	1250W
Გამოყენების დიაპაზონი	4~8 ინჩი	4~8 ინჩი
Ერთი მუშაობის ნაჭრები	4~6 ინჩი=50 ცალი\/8ინჩი=25 ცალი	4~6 ინჩი=50 ცალი\/8 ინჩი=25 ცალი
Გარემოს ზომები	1250x1630x1900მმ	1250x1630x1900მმ
Სისტემის კონტროლი	PC	PC
Ავტომატიზაციის დონე	Ავტო	Ავტო

Ქარხანა

Პროდუქტის დეტალები

Შეფუთვა და მიწოდება

Კომპანიის პროფილი

16 წლიანი გამოცდილება აღჭურვილი ექიპმენტის ექსპორტში! შეგვიძლია გთავაზოთ ერთკითხელი გადაწყვეტა სემიკონდუქტორის წინა/შემდეგ პროცესებისა და ექიპმენტის შესახებ!